[发明专利]阵列基板及其制造方法、显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，包括：

栅极，形成在所述基板上方；

栅极绝缘层，形成在所述栅极上方；

有源层，与所述栅极相对，形成在所述栅极绝缘层上方；

源极和漏极，形成在所述有源层上方；

像素电极，形成在所述栅极绝缘层上方且所述漏极电连接；

钝化层，覆盖所述源极、漏极和像素电极；以及

公共电极，与所述像素电极对应且形成在所述钝化层上方；

其中，所述公共电极中形成有开口，所述开口贯穿所述钝化层暴露出其下方的像素电极。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，还包括：导电接触，形成在所述开口内的像素电极上。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其中所述开口形成在所述阵列基板的蓝色像素中。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其中所述漏极形成在所述像素电极上。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的阵列基板，其中所述开口位于所述阵列基板的非显示区域内。

6.一种显示面板，包括根据权利要求1至5中任一项所述的阵列基板，其中所述显示面板内的黑矩阵遮挡所述开口。

7.一种阵列基板的制造方法，包括：

在基板上形成栅极；

在所述栅极上形成栅极绝缘层；

与所述栅极相对，在所述栅极绝缘层上形成有源层；

在所述栅极绝缘层上形成像素电极；

在所述有源层上形成源极和漏极；

沉积钝化层，以覆盖所述源极、漏极和像素电极；

在所述钝化层上形成与所述像素电极对应的公共电极；

在所述公共电极中形成开口，所述开口贯穿所述钝化层暴露出其下方的像素电极。

8.根据权利要求7所述的方法，还包括：在所述开口内的像素电极上形成导电接触。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述导电接触与所述源极和漏极在同一步骤中形成。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其中所述漏极形成在所述像素电极上。