[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元，相邻的所述彩色滤光单元之间设置有黑矩阵，其特征在于，

所述彩膜基板还包括：位于所述黑矩阵所在区域的挡光凸起，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述挡光凸起的横向宽度小于或者等于所述黑矩阵的横向宽度。

3.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述挡光凸起的纵向长度大于或等于所述彩色滤光层的纵向最大长度。

4.根据权利要求1-3任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述挡光凸起直接形成于所述黑矩阵上，所述挡光凸起的材质与所述黑矩阵的材质相同。

5.根据权利要求1-3任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述挡光凸起与所述黑矩阵之间设置有隔离层。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，还包括位于所述隔离层上的隔垫物，所述挡光凸起的材质与所述隔垫物的材质相同。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述隔垫物包括主隔垫物和副隔垫物，所述主隔垫物的高度大于或等于所述副隔垫物的高度，所述挡光凸起的高度小于或等于所述副隔垫物的高度。

8.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵包括多行横向设置的第一黑矩阵部分和多列纵向设置的第二黑矩阵部分，相邻两行所述第一黑矩阵部分之间的间距大于或等于相邻两列所述第二黑矩阵部分之间的间距，所述挡光凸起位于所述第二黑矩阵部分所在区域。

9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的彩膜基板。

10.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形，其中，

所述彩色滤光层包括呈矩阵分布的至少两种颜色的彩色滤光单元；

所述黑矩阵位于相邻的所述彩色滤光单元之间；

所述挡光凸起位于所述黑矩阵所在区域，以防止不同颜色的所述彩色滤光单元之间发生混色。

11.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述挡光凸起的横向宽度小于或者等于所述黑矩阵的横向宽度。

12.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述挡光凸起的纵向长度大于或等于所述彩色滤光层的纵向最大长度。

13.根据权利要求10-12任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形，包括：

在所述衬底基板上形成所述彩色滤光层的图形；

在形成了所述彩色滤光层的图形的所述衬底基板上形成一层黑色感光树脂，经过一次构图工艺，同时形成包括所述黑矩阵和所述挡光凸起的图形，且所述挡光凸起直接形成于所述黑矩阵上。

14.根据权利要求10-12任一项所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括彩色滤光层、黑矩阵和挡光凸起的图形，包括：

形成所述黑矩阵的图形；

形成所述彩色滤光层的图形；

在形成了所述彩色滤光层和所述黑矩阵的图形的所述衬底基板上，形成隔离层；

在所述隔离层上形成包括所述挡光凸起的图形。

15.根据权利要求14所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述隔离层上形成包括所述挡光凸起的图形，包括：

在所述隔离层上形成一层不透光的感光树脂材料，经过一次构图工艺，同时形成包括所述挡光凸起和隔垫物的图形。

16.根据权利要求15所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述隔离层上形成一层不透光的感光树脂材料，经过一次构图工艺，同时形成包括所述挡光凸起和隔垫物的图形，包括：

在所述隔离层上形成一层不透光的感光树脂材料，经过一次构图工艺，同时形成包括所述挡光凸起、主隔垫物和副隔垫物的图形；

所述主隔垫物的高度大于或等于所述副隔垫物的高度，所述挡光凸起的高度小于或等于与所述副隔垫物的高度。

17.根据权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在衬底基板上形成包括所述黑矩阵和挡光凸起的图形，包括：

在所述衬底基板上形成黑矩阵的图形，所述黑矩阵包括多行横向设置的第一黑矩阵部分和多列纵向设置的第二黑矩阵部分，相邻两行所述第一黑矩阵部分之间的间距大于或等于相邻两列所述第二黑矩阵部分之间的间距；

在所述第二黑矩阵部分所在区域上形成所述挡光凸起的图形。