[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201410048343.5 申请日: 2014-02-12
公开(公告)号: CN103779360B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 郝学光;李成;魏向东;安星俊;柳奉烈 申请(专利权)人: 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司11274 代理人: 申健
地址: 017000 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示基板,包括衬底基板和位于所述衬底基板上的纵横交错的栅线和数据线,所述栅线和所述数据线围成像素单元,所述像素单元包括薄膜晶体管和像素电极,其特征在于,

所述衬底基板上还设置有彩色滤色层和黑矩阵;

所述彩色滤色层包括至少一个颜色区域,一个所述像素单元内的所述像素电极在所述衬底基板上的垂直投影落在所述彩色滤色层的一个所述颜色区域在所述衬底基板上的垂直投影内;

所述黑矩阵位于所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管的上方,所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管在所述衬底基板上的垂直投影均落在所述黑矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内。

2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述薄膜晶体管包括:

位于衬底基板上的有源层;

位于所述有源层上的栅极绝缘层;

位于所述栅极绝缘层上的栅极;

位于所述栅极上的源漏极绝缘层,所述栅极绝缘层和所述源漏极绝缘层上设置有对应于源极的第一过孔和对应于漏极的第二过孔;

位于所述源漏极绝缘层上的所述源极和所述漏极,所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接,所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接。

3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,

所述彩色滤色层位于所述源极和所述漏极上方;

所述衬底基板上还设置有:

位于所述彩色滤色层上的钝化层,所述彩色滤色层和所述钝化层上设置有对应于所述漏极和所述像素电极的第三过孔;

位于所述钝化层上的所述像素电极,所述像素电极通过所述第三过孔与所述漏极电连接;

所述黑矩阵位于所述像素电极上方。

4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,

所述衬底基板上还设置有位于所述彩色滤色层和所述钝化层之间的公共电极;

所述像素电极上设置有狭缝。

5.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-4任一项所述的显示基板。

6.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:

在衬底基板上形成包括纵横交错的栅线、数据线、薄膜晶体管和像素电极的图形,所述薄膜晶体管和所述像素电极位于所述栅线和所述数据线围成的像素单元内;

所述方法还包括在所述衬底基板上形成彩色滤色层和黑矩阵的图形;

所述彩色滤色层包括至少一个颜色区域,一个所述像素单元内的所述像素电极在所述衬底基板上的垂直投影落在所述彩色滤色层的一个所述颜色区域在所述衬底基板上的垂直投影内;

所述黑矩阵位于所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管的上方,所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管在所述衬底基板上的垂直投影均落在所述黑矩阵在所述衬底基板上的垂直投影内。

7.根据权利要求6所述的显示基板的制作方法,其特征在于,所述在衬底基板上形成包括纵横交错的栅线、数据线、薄膜晶体管和像素电极的图形,所述薄膜晶体管和所述像素电极位于所述栅线和所述数据线围成的像素单元内,包括:

在所述衬底基板上,形成一层半导体层,通过构图工艺形成包括有源层的图形;

在形成了所述有源层的图形的所述衬底基板上,形成一层栅极绝缘层;

在形成了所述栅极绝缘层的所述衬底基板上,形成一层栅极金属层,通过构图工艺形成包括所述栅线和栅极的图形;

在形成了所述栅线和所述栅极的图形的所述衬底基板上,形成一层源漏极绝缘层,通过构图工艺使所述栅极绝缘层和所述源漏极绝缘层上形成对应于源极的第一过孔和对应于漏极的第二过孔的图形;

在形成了所述源漏极绝缘层的所述衬底基板上,形成一层源漏极金属层,通过构图工艺形成包括所述数据线、所述源极和所述漏极的图形,所述源极通过所述第一过孔与所述有源层连接,所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接,以形成所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管的图形;

在形成了所述栅线、所述数据线和所述薄膜晶体管的图形的所述衬底基板上,形成一层透明导电层,通过构图工艺形成包括所述像素电极的图形。

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