[发明专利]布线基板的制造方法在审

专利信息
申请号: 201410019088.1 申请日: 2014-01-15
公开(公告)号: CN103929903A 公开(公告)日: 2014-07-16
发明(设计)人: 前田真之介 申请(专利权)人: 日本特殊陶业株式会社
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 布线 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种布线基板(100)的制造方法,其特征在于,其按顺序具有下述工序:

于绝缘层(103)形成通孔(105a)的工序;

在所述通孔(105a)内填充导体材料而形成通孔导体(105b)的工序;

在所述绝缘层(103)上形成主催化剂层(203)的工序;

在所述主催化剂层(203)上形成呈期望的图案且具有第1开口的掩模(M2)的工序;

通过化学镀法在从所述第1开口露出的所述主催化剂层(203)上形成主导体层(C3)的工序;

剥离所述掩模(M2)的工序;以及,

去除由于所述掩模(M2)的剥离而露出的部分的所述主催化剂层(203)的工序。

2.一种布线基板(100)的制造方法,其特征在于,其按顺序具有下述工序:

于绝缘层(103)形成通孔(105a)的工序;

在所述通孔(105a)内填充导体材料而形成通孔导体(105b)的工序;

在所述绝缘层(103)上形成主催化剂层(203)的工序;

在所述主催化剂层(203)上形成呈期望的图案且具有第2开口的掩模(M3)的工序;

去除所述主催化剂层(203)中从所述掩模(M3)露出的部分的工序;

剥离所述掩模(M3)的工序;以及,

通过化学镀法在所述主催化剂层(203)上形成主导体层(C3)的工序。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,所述形成通孔导体(105b)的工序具有下述工序:

在包括所述通孔(105a)的内壁面的所述绝缘层(103)上形成副催化剂层(202)的工序;

通过化学镀法在所述副催化剂层(202)上形成副导体层(C2)的工序;以及,

去除在除所述通孔(105a)内部以外的区域形成的所述副导体层(C2),在所述通孔(105a)内形成所述通孔导体(105b)的工序。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,所述形成通孔导体(105b)的工序具有下述工序:

在包括所述通孔(105a)的内壁面的所述绝缘层(103)上形成副催化剂层(202)的工序;

去除在所述通孔(105a)的内壁面以外的区域形成的所述副催化剂层(202)的工序;以及,

通过化学镀法在于所述通孔(105a)的内壁面形成的所述副催化剂层(202)上形成所述通孔导体(105b)的工序。

5.根据权利要求4所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,

在所述形成通孔(105a)的工序中,通过在所述绝缘层(103)上具有保护层(HF)的状态下形成贯通所述保护层(HF)和所述绝缘层(103)的贯通孔,从而形成所述通孔(105a),

在所述形成副催化剂层(202)的工序中,在所述通孔(105a)的内壁面和所述保护层(HF)的表面形成所述副催化剂层(202),

去除所述保护层(HF),从而去除在所述通孔(105a)的内壁面以外的区域形成的所述副催化剂层(202)。

6.根据权利要求1或权利要求2所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,所述形成通孔导体(105b)的工序具有下述工序:

通过印刷法,在包括所述通孔(105a)内部的所述绝缘层(103)上形成副导体层(202)的工序;以及,

去除在除所述通孔(105a)内部以外的区域形成的所述副导体层(202),在所述通孔(105a)内形成所述通孔导体(105b)的工序。

7.根据权利要求6所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,

在所述形成通孔(105a)的工序中,通过在所述绝缘层(103)上具有保护层(HF)的状态下形成贯通所述保护层(HF)和所述绝缘层(103)的贯通孔,从而形成所述通孔(105a),

在所述形成副导体层(202)的工序中,在所述通孔(105a)的内壁面和所述保护层(HF)的表面形成所述副导体层(202),

通过去除所述保护层(HF),去除在除所述通孔(105a)内部以外的区域形成的所述副导体层(202)。

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