[发明专利]布线基板的制造方法在审
申请号: | 201410019088.1 | 申请日: | 2014-01-15 |
公开(公告)号: | CN103929903A | 公开(公告)日: | 2014-07-16 |
发明(设计)人: | 前田真之介 | 申请(专利权)人: | 日本特殊陶业株式会社 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 布线 制造 方法 | ||
1.一种布线基板(100)的制造方法,其特征在于,其按顺序具有下述工序:
于绝缘层(103)形成通孔(105a)的工序;
在所述通孔(105a)内填充导体材料而形成通孔导体(105b)的工序;
在所述绝缘层(103)上形成主催化剂层(203)的工序;
在所述主催化剂层(203)上形成呈期望的图案且具有第1开口的掩模(M2)的工序;
通过化学镀法在从所述第1开口露出的所述主催化剂层(203)上形成主导体层(C3)的工序;
剥离所述掩模(M2)的工序;以及,
去除由于所述掩模(M2)的剥离而露出的部分的所述主催化剂层(203)的工序。
2.一种布线基板(100)的制造方法,其特征在于,其按顺序具有下述工序:
于绝缘层(103)形成通孔(105a)的工序;
在所述通孔(105a)内填充导体材料而形成通孔导体(105b)的工序;
在所述绝缘层(103)上形成主催化剂层(203)的工序;
在所述主催化剂层(203)上形成呈期望的图案且具有第2开口的掩模(M3)的工序;
去除所述主催化剂层(203)中从所述掩模(M3)露出的部分的工序;
剥离所述掩模(M3)的工序;以及,
通过化学镀法在所述主催化剂层(203)上形成主导体层(C3)的工序。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,所述形成通孔导体(105b)的工序具有下述工序:
在包括所述通孔(105a)的内壁面的所述绝缘层(103)上形成副催化剂层(202)的工序;
通过化学镀法在所述副催化剂层(202)上形成副导体层(C2)的工序;以及,
去除在除所述通孔(105a)内部以外的区域形成的所述副导体层(C2),在所述通孔(105a)内形成所述通孔导体(105b)的工序。
4.根据权利要求1或权利要求2所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,所述形成通孔导体(105b)的工序具有下述工序:
在包括所述通孔(105a)的内壁面的所述绝缘层(103)上形成副催化剂层(202)的工序;
去除在所述通孔(105a)的内壁面以外的区域形成的所述副催化剂层(202)的工序;以及,
通过化学镀法在于所述通孔(105a)的内壁面形成的所述副催化剂层(202)上形成所述通孔导体(105b)的工序。
5.根据权利要求4所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,
在所述形成通孔(105a)的工序中,通过在所述绝缘层(103)上具有保护层(HF)的状态下形成贯通所述保护层(HF)和所述绝缘层(103)的贯通孔,从而形成所述通孔(105a),
在所述形成副催化剂层(202)的工序中,在所述通孔(105a)的内壁面和所述保护层(HF)的表面形成所述副催化剂层(202),
去除所述保护层(HF),从而去除在所述通孔(105a)的内壁面以外的区域形成的所述副催化剂层(202)。
6.根据权利要求1或权利要求2所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,所述形成通孔导体(105b)的工序具有下述工序:
通过印刷法,在包括所述通孔(105a)内部的所述绝缘层(103)上形成副导体层(202)的工序;以及,
去除在除所述通孔(105a)内部以外的区域形成的所述副导体层(202),在所述通孔(105a)内形成所述通孔导体(105b)的工序。
7.根据权利要求6所述的布线基板(100)的制造方法,其特征在于,
在所述形成通孔(105a)的工序中,通过在所述绝缘层(103)上具有保护层(HF)的状态下形成贯通所述保护层(HF)和所述绝缘层(103)的贯通孔,从而形成所述通孔(105a),
在所述形成副导体层(202)的工序中,在所述通孔(105a)的内壁面和所述保护层(HF)的表面形成所述副导体层(202),
通过去除所述保护层(HF),去除在除所述通孔(105a)内部以外的区域形成的所述副导体层(202)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本特殊陶业株式会社,未经日本特殊陶业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410019088.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。