[发明专利]一种触控显示面板及其制备方法无效
申请号: | 201410016129.1 | 申请日: | 2014-01-14 |
公开(公告)号: | CN103792711A | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 王灿;王路 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种触控显示面板,包括对盒成型的阵列基板和彩膜基板;其特征在于,还包括:
设置在所述阵列基板或所述彩膜基板上的一组相互平行的第一电极线;
设置在所述阵列基板或所述彩膜基板上、且与所述第一电极线交叉排列的一组相互平行的第二电极线;
所述第一电极线与所述第二电极线之间无电连接;
其中,所述第一电极线和/或所述第二电极线与所述彩膜基板的黑矩阵位置对应,且与所述黑矩阵位置对应的所述第一电极线和/或所述第二电极线为金属电极线。
2.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述第一电极线和所述第二电极线均与所述黑矩阵位置对应;
所述第一电极线和所述第二电极线均为金属电极线。
3.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述第一电极线与所述黑矩阵位置对应,所述第二电极线位于所述显示面板的透光区;
所述第一电极线为金属电极线,所述第二电极线为透明氧化铟锡ITO电极线。
4.根据权利要求2或3所述的触控显示面板,其特征在于,所述第一电极线和所述第二电极线均设置在所述彩膜基板上或均设置在所述阵列基板上;其中,所述第一电极线和所述第二电极线之间还包括绝缘层;
或者,所述第一电极线设置在所述彩膜基板上,所述第二电极线设置在所述阵列基板上。
5.根据权利要求4所述的触控显示面板,其特征在于,在所述第一电极线和/或所述第二电极线设置在所述彩膜基板上的情况下,所述第一电极线和/或所述第二电极线设置在所述彩膜基板的黑矩阵靠近所述阵列基板的一侧。
6.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述黑矩阵在所述彩膜基板上的投影覆盖与所述黑矩阵位置对应的所述第一电极线和/或所述第二电极线在所述彩膜基板上的投影。
7.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述第一电极线为触控扫描线,所述第二电极线为触控感应线;或者,
所述第一电极线为触控感应线,所述第二电极线为触控扫描线。
8.根据权利要求7所述的触控显示面板,其特征在于,所述触控显示面板还包括与所述触控扫描线连接的信号输入线以及与所述触控感应线连接的信号采集线。
9.根据权利要求1所述的触控显示面板,其特征在于,所述金属电极线的材质包括钼、铜、银、铝金属材质或铝钕、铝银合金材质中的至少一种。
10.根据权利要求9所述的触控显示面板,其特征在于,所述金属电极线的厚度为100~400nm。
11.一种如权利要求1至10任一项所述的触控显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:
在形成与黑矩阵位置对应的第一电极线和/或第二电极线时,通过低温沉积工艺形成金属层,再对所述金属层进行掩膜工艺形成金属电极线。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述通过低温沉积工艺形成金属层包括:
在20℃~50℃的气氛下,通过磁控溅射工艺形成厚度为100~400nm所述金属层。
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