[发明专利]使用瞬态效应的估计改进轮胎的均匀性

权利要求书

1.一种用于改进轮胎的均匀性的方法，所述方法包括：

获得一组多个轮胎中的每一轮胎的均匀性参数的均匀性测量值；

利用一或多个处理装置分析所述均匀性测量值以识别瞬态均匀性效应，所述瞬态均匀性效应在所述组轮胎中的不同轮胎间随时间改变；以及

至少部分地基于所述瞬态均匀性效应修改一或多个轮胎的制造；

其中利用一或多个处理装置分析所述均匀性测量值以识别瞬态均匀性效应包括：

利用所述一或多个处理装置从所述均匀性测量值移除一或多个均匀性效应以确定残余均匀性测量值；以及

利用所述一或多个处理装置分析所述残余均匀性测量值以识别在所述组轮胎中的不同轮胎间变化的效应。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述瞬态均匀性效应可归因于轮胎谐波均匀性效应。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述瞬态均匀性效应包括可归因于硫化膜片的膜片效应。

4.根据权利要求3所述的方法，其中使用相同硫化膜片连续硫化所述组轮胎。

5.根据权利要求3所述的方法，其中所述方法包括估计所述硫化膜片的膜片接合形状。

6.根据权利要求3所述的方法，其中所述均匀性测量值包括所述组轮胎中的每一轮胎的均匀性波形，所述均匀性波形包括关于所述轮胎的多个数据点的所测得的均匀性参数。

7.根据权利要求6所述的方法，其中利用一或多个处理装置分析所述均匀性测量值以识别瞬态均匀性效应包括：

从所述均匀性波形移除一或多个均匀性效应以识别一或多个残余波形；

将所述一或多个残余波形建模为硫化机效应项与膜片效应项的总和；

估计与所述膜片效应项相关联的系数；以及

至少部分地基于所估计的系数确定所述硫化膜片的所述膜片效应的一或多个参数。

8.根据权利要求3所述的方法，其中所述均匀性测量值包括针对所述组轮胎中的每一轮胎测得的所述均匀性参数的多个谐波分量中的每一者的量值。

9.根据权利要求8所述的方法，其中利用一或多个处理装置分析所述均匀性测量值以识别瞬态均匀性效应包括：

从所述多个谐波分量中的每一谐波分量移除一或多个均匀性效应以识别与所述组轮胎相关联的多个残余谐波；

将所述残余谐波中的每一者建模为硫化机量值效应项与膜片效应项的总和，所述膜片效应项随着所述组轮胎中的每一轮胎改变；

估计与所述膜片效应项相关联的系数；以及

至少部分地基于所估计的系数确定所述膜片效应的一或多个参数。

10.根据权利要求1所述的方法，其中修改一或多个轮胎的所述制造包括修改对所述瞬态均匀性效应产生贡献的过程元件。

11.根据权利要求3所述的方法，其中修改一或多个轮胎的所述制造包括至少部分地基于所述膜片效应的一或多个参数更换硫化机的硫化膜片。

12.根据权利要求3所述的方法，其中修改一或多个轮胎的所述制造包括至少部分地基于所述膜片效应设计硫化膜片的膜片接合。

13.根据权利要求3所述的方法，其中修改轮胎制造包括至少部分地基于所述膜片效应改变硫化机中生胎的装载角度。

14.一种用于改进轮胎的均匀性的系统，所述系统包括：

测量机器，其经配置以获得一组多个轮胎中的每一轮胎的均匀性测量值；以及

计算系统，其耦合到所述测量机器，所述计算系统包括一或多个处理器和至少一个非暂时性计算机可读媒体，所述至少一个非暂时性计算机可读媒体存储计算机可读指令，所述计算机可读指令在由所述一或多个处理器执行时致使所述一或多个处理器执行操作，所述操作包括分析所述均匀性测量值以识别瞬态均匀性效应，利用所述一或多个处理器从所述均匀性测量值移除一或多个均匀性效应以确定残余均匀性测量值；以及利用所述一或多个处理器分析所述残余均匀性测量值以识别在所述组轮胎中的不同轮胎间变化的效应，所述瞬态均匀性效应在所述组轮胎中的不同轮胎间随时间改变。