[发明专利]用于处理基底堆叠的保持系统、装置及方法

权利要求书

1.一种保持系统(1,20)，其用于处理待与第二基底(13)接合的第一基底(4)，所述保持系统具有：

－保持表面(1o,20o)，其用于保持第一基底(4)，以及

－至少一个凹口(2,21)，相对于所述保持表面(1o,20o)凹入，用于保持磁性作用的附接机构，以用于相对于与所述第一基底(4)对准的第二基底(13)固定所述第一基底(4)，

－其中，另外的磁体被应用在所述第二基底(13)的背对所述第一基底(4)的固持侧(13h)上；

其中，由所述第一基底(4)和所述第二基底(13)构成的基底堆叠(14)在省略所述保持系统(1,20)的情况下能够仅利用所述附接机构移动。

2.根据权利要求1所述的保持系统，其特征在于，所述凹口(2,21)设计为至少一个架，其布置在外周上，具有用于承坐所述附接机构的承坐区段(2o,21o)，以及用于安装所述附接机构的朝承坐表面(1o,20o)的中心定向的安装区段(2o,21o)。

3.根据权利要求2所述的保持系统，其特征在于，所述承坐区段(2o,21o)相对于所述保持表面(1o,20o)倾斜小于60°的角度。

4.根据权利要求3所述的保持系统，其特征在于，所述承坐区段(2o,21o)相对于所述保持表面(1o,20o)倾斜小于45°的角度。

5.根据权利要求3所述的保持系统，其特征在于，所述承坐区段(2o,21o)相对于所述保持表面(1o,20o)倾斜小于30°的角度。

6.根据权利要求3所述的保持系统，其特征在于，所述承坐区段(2o,21o)相对于所述保持表面(1o,20o)倾斜小于15°的角度。

7.根据权利要求1所述的保持系统，其特征在于，所述凹口(2,21)均匀地布置分布在所述保持表面(1o,20o)的外周上。

8.用于处理基底堆叠(14)的装置，所述基底堆叠(14)由第一基底(4)和相对于所述第一基底(4)对准的第二基底(13)构成，所述装置具有磁性作用的附接机构，所述附接机构用于在对准的固定位置相对于所述第二基底(13)固定所述第一基底(4)，其中，所述装置具有放置系统(6)，其用于将所述附接机构放置在所述基底堆叠(14)的背对彼此的侧上，以及其中，所述基底堆叠(14)在省略保持系统的情况下能够仅利用所述附接机构移动。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述附接机构具有至少两对磁性元件(5p)。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，每一对磁性元件(5p)由磁活性的第一磁体和由所述第一磁体磁性吸引的第二磁体形成。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第二磁体是磁活性的。

12.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一磁体和/或所述第二磁体设计为球形的形状。

13.根据权利要求10或12所述的装置，其特征在于，所述第一磁体和/或所述第二磁体至少主要地在所述固定位置由所述一对磁性元件(5p)产生的磁力附接至所述基底堆叠(14)。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述第一磁体和/或所述第二磁体完全地在所述固定位置由所述一对磁性元件(5p)产生的磁力附接至所述基底堆叠(14)。

15.根据权利要求8所述的装置，其特征在于，所述装置具有根据权利要求1至7中的一项所述的保持系统。