[发明专利]含有钼的薄膜的制造方法、薄膜形成用原料及钼酰亚胺化合物

权利要求书

1.一种薄膜的制造方法，其中，将含有钼酰亚胺化合物的蒸汽导入至基体上，使其分解和/或发生化学反应，从而在基体上形成含有钼的薄膜，所述钼酰亚胺化合物是使含有下述通式(I)所示的钼酰亚胺化合物而成的薄膜形成用原料汽化来获得的，

式中，R¹～R¹⁰表示氢原子或者碳数为1～5的直链或支链状烷基，R¹¹表示碳数为1～8的直链或支链状烷基。

2.一种薄膜形成用原料，其是含有权利要求1所述的薄膜的制造方法中使用的下述通式(I)所示的钼酰亚胺化合物而成的，

式中，R¹～R¹⁰表示氢原子或者碳数为1～5的直链或支链状烷基，R¹¹表示碳数为1～8的直链或支链状烷基。

3.下述通式(II)所示的钼酰亚胺化合物，

式中，R¹²～R²¹表示氢原子或者碳数为1～5的直链或支链状烷基，R²²、R²³分别表示甲基或乙基，R²⁴表示碳数为2～5的直链或支链状烷基。