[发明专利]蚀刻组合物

权利要求书

1.一种蚀刻组合物，包含：

60重量％至95重量％的至少一种磺酸；

0.005重量％至0.04重量％的氯化物阴离子；

0.03重量％至0.27重量％的溴化物阴离子；

0.1重量％至20重量％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和

3重量％至37重量％的水；

其中所述组合物不含有氟离子。

2.如权利要求1所述的组合物，其中所述至少一种磺酸包含式(1)的化合物：

R¹SO₃H 式(1)，

其中R¹是取代或未取代的C₁-C₁₂直链或支链的烷基、取代或未取代的C₃-C₁₂环烷基、C₁-C₁₂直链或支链的氟烷基醚或C₃-C₁₂环氟烷基醚。

3.如权利要求2所述的组合物，其中R¹是C₁-C₁₂直链或支链的烷基或C₃-C₁₂环烷基，其每一个任选地被卤素、C₁-C₄烷基、磺酸或任选地被C₁-C₄烷基或羟基取代的苯基所取代。

4.如权利要求3所述的组合物，其中所述至少一种磺酸是甲烷磺酸。

5.如权利要求1所述的组合物，其中所述至少一种磺酸包含式(2)的化合物：

其中

R²、R³和R⁴各自独立地为C₁-C₁₂直链或支链的烷基、C₃-C₁₂环烷基、F、Cl、Br、OH、NO₂、SO₃H或CO₂H；

R⁵是H；并且

a、b、c和n各自独立地为0、1、2和3，前提条件是a、b和c的总和为n。

6.如权利要求5所述的组合物，其中R²、R³和R⁴各自独立地为C₁-C₂烷基、Cl、NO₂、OH、F或CO₂H；并且n为0或1。

7.如权利要求1所述的组合物，其中所述至少一种磺酸包含萘磺酸或蒽磺酸，其每一个任选地被C₁-C₁₂直链或支链的烷基或SO₃H取代。

8.如权利要求1所述的组合物，其中所述组合物包含第一磺酸和第二磺酸。

9.如权利要求8所述的组合物，其中所述第一磺酸包含式(1)的化合物：

R¹SO₃H 式(1)，

其中R¹是未取代的C₁-C₄直链或支链的烷基。

10.如权利要求8所述的组合物，其中所述第二磺酸包含式(2)的化合物：

其中

R²、R³和R⁴各自独立地为C₁-C₁₂直链或支链的烷基、C₃-C₁₂环烷基、F、Cl或Br；

R⁵是H；并且

a、b、c和n各自独立地为0、1、2和3，前提条件是a、b和c的总和为n。