[发明专利]用于清洁SCR系统的装置和方法

权利要求书

1.一种用于清洁SCR系统的方法，其中将还原剂供应至SCR催化剂(260)的上游的排气流，在所述SCR催化剂(260)的上游和下游确定所述排气流的NOx含量，并且通过高温过程来去除还原剂结晶体，

其特征在于以下步骤：

-在所述SCR催化剂(260)的不使还原剂结晶体汽化的温度(T1)下确定在所述SCR催化剂(260)的下游和上游所确定的相应NOx含量之间的比率(K1)(s430)，

-提高所述排气流的温度，从而出于清洁目的使还原剂结晶体汽化(s440)，

-在所述SCR催化剂(260)的使还原剂结晶体汽化的温度(T2)下确定在所述SCR催化剂(260)的下游和上游所确定的相应NOx含量之间的比率(Kn)(s450)，

-比较所述比率(K1，Kn)并且利用该比较结果作为用于判定还原剂结晶体是否已经被去除到预期程度的依据(s460)。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括以下步骤：

-当确定需要时，进行清洁(s440)、确定(s450)和比较(s460)的另一循环。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中在比确定所述比率(Kn)并且使还原剂结晶体汽化的温度(T2)更高的温度(T3)下进行清洁。

4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在开始提高温度(s440)之后进行在不使还原剂结晶体汽化的温度(T1)下确定所述比率(K1)的步骤(s430)。

5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在每次确定所述NOx含量的预定条件下进行在使还原剂结晶体汽化的温度(T2)下确定所述比率(Kn)的步骤。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中所述还原剂是尿素基还原剂，例如AdBlue。

7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，其中在预定时间段内(t4-t5)进行所述清洁(s440)。

8.一种用于清洁SCR系统的装置，其中将还原剂供应至SCR催化剂(260)的上游的排气流，在所述SCR催化剂(260)的下游和上游确定所述排气流的NOx含量，并且通过高温过程来去除还原剂结晶体，

其特征在于所述装置包括：

-用于在所述SCR催化剂(260)的不使还原剂结晶体汽化的温度(T1)下确定在所述SCR催化剂(260)的下游和上游所确定的相应NOx含量之间的比率(K1)的模块(200；210；500)，

-用于提高所述排气流的温度以使还原剂结晶体汽化从而实现清洁的模块(200；210；500)，

-用于在所述SCR催化剂(260)的使还原剂结晶体汽化的温度(T2)下确定在所述SCR催化剂(260)的下游和上游所确定的相应NOx含量之间的比率(Kn)的模块(200；210；500)，

-用于比较所述比率(K1，Kn)并且将该比较结果作为用于判定还原剂结晶体是否已经被去除到预期程度的依据的模块(200；210；500)。

9.根据权利要求8所述的装置，还包括：

-用于当确定需要时进行清洁、确定和比较的另一循环的模块(200；210；500)。

10.根据权利要求8或9所述的装置，包括：

-用于在比确定所述比率(Kn)并且使还原剂结晶体汽化的温度(T2)更高的温度(T3)下进行清洁的模块(200；210；500)。

11.根据权利要求8至10中的任一项所述的装置，包括：

-用于在开始提高温度之后在不使还原剂结晶体汽化的温度(T1)下确定所述比率(K1)的模块(200；210；500)。

12.根据权利要求8至11中的任一项所述的装置，包括：

-用于在每次确定所述NOx含量的预定条件下进行在使还原剂结晶体汽化的温度(T2)下确定所述比率(Kn)的模块(200；210；500)。

13.根据权利要求8至12中的任一项所述的装置，其中所述还原剂是尿素基还原剂，例如Adblue。

14.根据权利要求8至13中的任一项所述的装置，包括：

-用于在预定的时间段(t4-t5)内进行所述清洁的模块(200；210；500)。