[实用新型]基于二维电子气的氢气传感器芯片有效

专利信息
申请号: 201320754832.3 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN203800048U 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 邓群雄;郭文平;柯志杰;黄慧诗 申请(专利权)人: 江苏新广联科技股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/778
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 曹祖良;刘海
地址: 214192 江苏省无锡*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 基于 二维 电子 氢气 传感器 芯片
【权利要求书】:

1.一种基于二维电子气的氢气传感器芯片,包括衬底(1),其特征是:在所述衬底(1)上表面设置相互分隔的左芯片(11)和右芯片(12),左芯片(11)和右芯片(12)分别包括设置在衬底(1)上表面的GaN层(2),在GaN层(2)上表面设置AlGaN层(4),在GaN层(2)和AlGaN层(4)之间形成二维电子气(3);在所述AlGaN层(4)上表面分别蒸镀形成漏极金属层(5)、源极金属层(6)和栅极金属层(7);在所述右芯片(12)的栅极金属层(7)上生长氢气隔离层(8),氢气隔离层(8)覆盖栅极金属层(7)的上表面和侧面。

2.如权利要求1所述的基于二维电子气的氢气传感器芯片,其特征是:所述栅极金属层(7)为Pt金属,栅极金属层(7)与AlGaN层(4)形成肖特基接触。

3.如权利要求1所述的基于二维电子气的氢气传感器芯片,其特征是:所述氢气隔离层(8)为SiO或Si3N4

4.如权利要求1所述的基于二维电子气的氢气传感器芯片,其特征是:所述衬底(1)为蓝宝石衬底、Si衬底或SiC衬底。

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