[实用新型]一种影像传感器结构有效
申请号: | 201320016896.3 | 申请日: | 2013-01-14 |
公开(公告)号: | CN203165886U | 公开(公告)日: | 2013-08-28 |
发明(设计)人: | 李平 | 申请(专利权)人: | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
主分类号: | H01L23/538 | 分类号: | H01L23/538 |
代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人: | 杨立 |
地址: | 湖北省武汉市湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 影像 传感器 结构 | ||
1.一种影像传感器结构,其特征是:包括逻辑晶圆和器件晶圆,所述逻辑晶圆上设有有逻辑晶圆二氧化硅层,所述逻辑晶圆二氧化硅层上覆盖有逻辑晶圆顶层顶层金属,所述逻辑晶圆顶层金属上设有键合氧化物层,所述键和氧化层上设有器件晶圆顶层金属,所述器件晶圆顶层金属上设有器件晶圆二氧化硅层,所述器件晶圆器件晶圆二氧化硅层上为器件晶圆,所述器件晶圆二氧化硅层上设有沟槽,所述沟槽底部为器件晶圆顶层金属,所述器件晶圆顶层金属上设有键合层深通孔,所述键合层深通孔底部为逻辑晶圆金属层,所述键合层深通孔与沟槽之中布满铜。
2.根据权利要求1所述的一种影像传感器结构,其特征是:所述键合层通孔和沟槽与其中布满的铜之间设有一层阻挡层。
3.根据权利要求1所述的一种影像传感器结构,其特征是:所述逻辑晶圆顶层金属与键和氧化层之间设有阻挡层。
4.根据权利要求1所述的一种影像传感器结构,其特征是:所述器件晶圆顶层金属与键和氧化层之间设有阻挡层
5.根据权利要求2至4任一所述的一种影像传感器结构,其特征是:所述阻挡层为氮化钛阻挡层。
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