[发明专利]沉积源以及具有其的沉积设备

权利要求书

1.一种沉积源，所述沉积源包括：

坩埚，容纳沉积材料并使沉积材料蒸发；

网格构件，设置在坩埚中并与沉积材料分隔开预定的距离，网格构件包括通过网格构件形成的多个开口；

格子构件，在坩埚中设置在网格构件上，以将网格构件划分成多个格子区域；

多个热球，设置在网格构件上并填充格子区域；以及

盖，设置在坩埚上以覆盖坩埚，盖包括喷射孔以喷射蒸发的沉积材料，

其中，所述多个热球具有比坩埚被加热单元加热至的温度高的熔点，坩埚被加热至所述温度以蒸发沉积材料，所述多个热球由在被加热的坩埚的所述温度下不具有任何排气的材料形成。

2.根据权利要求1所述的沉积源，其中，所述开口具有一个最短的尺寸，每个热球的直径大于开口的所述最短尺寸，热球的直径在从1mm至3mm的范围内。

3.根据权利要求2所述的沉积源，其中，热球包括熔点为700摄氏度或更高的碳化硅纤维。

4.根据权利要求1所述的沉积源，所述网格构件还包括：

侧表面部分，具有环形形状，并且与坩埚的内壁接触；以及

网格网，连接到侧表面部分的内侧表面的下部并设置为面向沉积材料，开口通过网格网形成。

5.根据权利要求4所述的沉积源，其中，所述格子构件包括：

多个第一格子构件，沿着第一方向延伸，并且布置为沿着第一水平维度以规则的间隔彼此分隔开；以及

多个第二格子构件，沿着与第一方向交叉的第二方向延伸，并且布置为沿着第二水平维度以规则的间隔彼此分隔开，第一格子构件和第二格子构件将网格网划分成所述多个格子区域。

6.根据权利要求5所述的沉积源，其中，第一格子构件和第二格子构件具有比侧表面部分的高度高的高度。

7.根据权利要求6所述的沉积源，其中，第一格子构件和第二格子构件的侧表面的下部连接到侧表面部分的内侧表面，第一格子构件和第二格子构件的下表面连接到网格网。

8.根据权利要求6所述的沉积源，其中，热球设置到网格网并且彼此堆叠以到达第一格子构件和第二格子构件的顶部，堆叠的热球的高度对应于第一格子构件和第二格子构件的高度。

9.根据权利要求5所述的沉积源，其中，第一格子构件之间的距离和第二格子构件之间的距离均在从18.5mm至19.5mm的范围，第一格子构件和第二格子构件的长度均在从55.2mm至57.2mm的范围，第一格子构件和第二格子构件的高度均在从11.5mm至12.5mm的范围。

10.根据权利要求9所述的沉积源，其中，侧表面部分的外侧表面的直径在从59mm至61mm的范围，侧表面部分的外侧表面的直径与侧表面部分的内侧表面的直径之差在0.8mm至1.2mm的范围，侧表面部分的高度在4.8mm至5.2mm的范围。