[发明专利]具有不同阈值电压的单元布局方法、实现系统和形成布局

权利要求书

1.一种形成布局的方法，所述方法包括：

处理器开发电路原理图，所述电路原理图包括多个单元；

基于所述电路原理图生成所述多个单元的单元布置规则；

基于所述单元布置规则开发所述多个单元的电路布局图；

基于所述多个单元的单元阈值电压对所述电路布局图的所述多个单元的一些单元进行分组，使具有相同阈值电压的两个以上的单元分为一组；

识别违背最小面积要求的单元；

识别违背所述最小面积要求的开放空间；以及

将阈值电压一致的填充物插入所述电路布局图内的识别出的违背所述最小面积要求的开放空间。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，生成所述单元布置规则包括：

分析所述多个单元中的每一个单元的单元宽度和阈值电压；

基于单元大小和电路类型对所述多个单元进行分组；以及

基于单元大小和阈值电压限定所述多个单元的单元之间的最小面积要求。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，分析所述单元宽度包括：将所述多个单元的每一个单元与最小值进行比较，其中，所述最小值等于在制造电路期间所使用的光刻工艺能够形成的最小部件。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，插入所述阈值电压一致的填充物包括：

插入伪单元、替换单元、解耦单元或开放区域中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，插入所述阈值电压一致的填充物包括：

增大被识别单元的宽度；

增大邻近被识别开放空间的至少一个单元的宽度；以及

用至少一种阈值电压掺杂剂填充剩余的开放空间。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，增大所述被识别单元的宽度包括：使所述阈值电压一致的填充物的阈值电压与所述多个单元的相邻单元中的至少一个单元的阈值电压相匹配。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，填充所述剩余的开放空间包括：用单一阈值电压掺杂剂填充所述剩余的开放空间。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，开发所述电路布局图包括：利用单元库转换所述电路原理图。

9.一种形成布局的系统，所述系统包括：

存储器，被配置为储存数据；以及

处理器，与所述存储器连接，所述处理器被配置为：

开发包括多个单元的电路原理图；

基于所述电路原理图生成所述多个单元的单元布置规则；

基于所述单元布置规则开发所述多个单元的电路布局图；

基于所述多个单元的单元阈值电压对所述电路布局图的所述多个单元的一些单元进行分组，使具有相同阈值电压的两个以上的单元分为一组；

识别违背最小面积要求的单元；

识别违背所述最小面积要求的开放空间；以及

将阈值电压一致的填充物插入所述电路布局图内的识别出的违背所述最小面积要求的开放空间。

10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述处理器进一步被配置为：

分析所述多个单元中的每一个单元的单元宽度和阈值电压；

基于单元大小和电路类型对所述多个单元进行分组；以及

基于单元大小和阈值电压限定所述多个单元的单元之间的最小面积要求。

11.根据权利要求10所述的系统，其中，所述处理器被配置为：利用所述多个单元的每一个单元与最小值之间的比较来确定所述单元大小，其中，所述最小值等于在制造电路期间所使用的光刻工艺能够形成的最小部件。

12.根据权利要求9所述的系统，其中，所述处理器进一步被配置为：

增大被识别单元的宽度；

增大邻近被识别开放空间的至少一个单元的宽度；以及

用至少一种阈值电压掺杂剂来填充剩余的开放空间。

13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述处理器被配置为：使所述阈值一致的填充物的阈值电压与所述多个单元的相邻单元中的至少一个单元的阈值电压相匹配。

14.根据权利要求12所述的系统，其中，所述处理器被配置为：用单一阈值电压掺杂剂来填充所述剩余的开放空间。