[发明专利]一种纳米二氧化硅的制备方法

权利要求书

1.一种纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于：将溶液A（或溶液B）加入撞击流反应器中，用溶液B(或溶液A）调节pH值至4-10后抽滤，滤饼用洗涤液C洗涤、干燥、锻烧得到纳米二氧化硅；其中，A为含硅化合物、表面活性剂、醇类和水的溶液，B为含酸化剂、醇类和水的溶液，C为含醇类或丙酮或其组合、表面活性剂和水的溶液。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溶液A中，含硅化合物浓度为0.1-3.0mol/L，醇类的加入量与水的体积比为1:1-30，表面活性剂的加入量占溶液A的质量百分数为0.1%-15%。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述含硅化合物选自有机硅化合物或无机硅化合物或其组合。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述有机硅化合物选自正硅酸乙酯或正硅酸甲酯或其组合；无机硅化合物选自碱金属硅酸盐或水合碱金属硅酸盐或其组合。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述碱金属硅酸盐选自硅酸锂、硅酸钠、硅酸钾、硅酸铷、硅酸铯或其组合。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述水合碱金属硅酸盐选自水合硅酸锂、水合硅酸钠、水合硅酸钾、水合硅酸铷、水合硅酸铯或其组合。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的溶液B中，酸化剂浓度为0.4-3.5mol/L。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的洗涤液C中，醇类或丙酮或其组合与水的体积比为1:2-30，表面活性剂的质量百分数为0.1%-15%。

9.根据权利要求1或2或8所述的方法，其特征在于，所述的表面活性剂选自阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、非离子表面活性剂或其组合。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述的阳离子表面活性剂选自胺盐类、季胺盐类或杂环类阳离子表面活性剂或其组合；阴离子表面活性剂选自烷基羧酸盐类、磺酸盐类、烷基硫酸盐类、磷酸酯盐类阴离子表面活性剂或其组合；非离子型表面活性剂选自聚氧乙烯型、多元醇型、烷基醇酰胺型、非离子氟碳表面活性剂或其组合。

11.根据权利要求1或2或8所述的方法，其特征在于，所述的表面活性剂选自平均分子量为400-10000的聚乙二醇、十六烷基三甲基溴化铵、十八烷基三甲基溴化铵、六偏磷酸钠、十二烷基磺酸钠、十二烷基硫酸钠或其组合。

12.根据权利要求1或2或8所述的方法，其特征在于，所述的醇类选自甲醇、乙醇、乙二醇、正丙醇、异丙醇、丙二醇、正丁醇、仲丁醇、异丁醇、叔丁醇、丁二醇或其组合。

13.根据权利要求1或7所述的方法，其特征在于，所述的酸化剂选自硫酸、盐酸、硝酸、氯化铵、硝酸铵、碳酸氢铵、碳酸铵、硫酸铵或其组合。

14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，撞击流反应器的转速为200-10000转/分钟，反应温度为5-90℃。

15.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，撞击流反应器的转速为200-6000转/分钟，反应温度为5-80℃。

16.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述煅烧的条件为：空气气氛或氧气气氛的马弗炉，煅烧温度为250-900℃，煅烧时间为0.5-7小时。