[发明专利]薄型GaInP/GaAs/Ge太阳电池的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310336493.1 申请日: 2013-08-05
公开(公告)号: CN104347754A 公开(公告)日: 2015-02-11
发明(设计)人: 赵宇;肖志斌;许军;韩志刚 申请(专利权)人: 天津恒电空间电源有限公司;中国电子科技集团公司第十八研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0687
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 李凤
地址: 300384 天津市滨海新区*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 薄型 gainp gaas ge 太阳电池 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于太阳能电池技术领域,特别是涉及一种薄型GaInP/GaAs/Ge太阳电池的制备方法。

背景技术

随着砷化镓太阳能电池技术的不断发展,砷化镓太阳能电池由于具有高光电转换效率以及良好的可靠性逐渐成为了倍受青睐的新一代高性能长寿命空间主电源。上世纪80年代初,航天飞行器空间主电源尤其是小卫星空间电源系统开始应用砷化镓太阳能电池,砷化镓组件在空间电源领域的应用比例日益增大,目前已超过90%。砷化镓太阳能电池已成为太阳能电池领域的应用与研究的热点。

目前,GaInP/GaAs/Ge三结砷化镓太阳能电池已凭借高光电转换效率、高抗辐射能力等优势基本上取代了单结砷化镓太阳能电池。虽然GaInP/GaAs/Ge三结砷化镓太阳能电池与单结砷化镓太阳能电池采用的原材料基本相同,但由于GaInP/GaAs/Ge三结砷化镓太阳能电池有三个P-N结,外延结构复杂,而每一层外延生长质量都直接影响整个砷化镓太阳能电池的性能,最重要的是由于GaInP/GaAs/Ge三结砷化镓电池厚度较大、柔性差而影响了电池使用寿命。

发明内容

本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种厚度薄、柔韧性好、使用寿命长、重量轻、牢固可靠的薄型GaInP/GaAs/Ge太阳电池的制备方法。

本发明为解决公知技术中存在的技术问题,采用如下技术方案:

薄型GaInP/GaAs/Ge太阳电池的制备方法,包括在GaInP/GaAs/Ge外延片的受光面蒸镀上电极、在背光面蒸镀下电极,上电极上蒸镀减反射膜,其特点是:对GaInP/GaAs/Ge外延片进行衬底的腐蚀,使厚度0.18mm±0.02mm的外延片减薄至0.14mm以下;所述衬底的腐蚀过程包括:用涂胶机在外延片的受光面旋涂胶,放入80~100℃的烘箱中烘烤20~60s,将外延片放入比例为双氧水:氢氟酸=200ml:100ml的溶液中,当外延片厚度减至0.14mm以下,取出外延片,用去离子水清洗,完成对外延片上衬底的减薄。

本发明还可以采用如下技术措施:

所述受光面的上电极蒸镀过程包括:先制出梳状密栅形栅线的光刻板;采用光刻机根据光刻板图形对受光面上光刻出梳状密栅形栅线槽;通过自动蒸发设备,在外延片受光面上梳状密栅形栅线槽内依次蒸镀出带有梳状密栅形栅线的Au-Ge-Ag-Au上电极。

所述下电极为Au-Ge-Ag下电极。

所述减反射膜为TiO2/Al2O3减反射膜。

本发明具有的优点和积极效果:

1、本发明采用了腐蚀衬底,使外延片厚度减薄为0.14mm以下,由于减小了电池的厚度,提高了电池的柔韧性,延长了电池的使用寿命;通过厚度的减薄,降低了电池的重量,提高太阳电池的功率/重量。

2、本发明采用Au-Ge-Ag-Au和Au-Ge-Ag作为收集光生电流的上、下电极材料体系,与电池半导体材料形成良好的欧姆接触,有效提高了上、下电极的可焊性和牢固度;由于上电极采用了梳状密栅形栅线,有效减小了遮光功率损失与串联电阻功率损失之和,提高了电池的光电转换效率。

3、本发明采用TiO2、Al2O3材料作为减反射膜,能在短波段获得很好的减反射效果,有效最低了电池表面的反射率,使短路电流的增益达到最高。

附图说明

图1是本发明薄型GaInP/GaAs/Ge太阳电池的制备方法结构主视示意图;

图2是图1中上电极的俯视示意图;

图3是本发明电池表面反射率曲线图。

图中的标号分别为:1-下电极;2-外延片;3-上电极;4-减反射膜;5-栅线。

具体实施方式

为能进一步公开本发明的发明内容、特点及功效,特例举以下实例并结合附图1-3进行详细说明如下。

薄型GaInP/GaAs/Ge太阳电池的制备方法,包括在GaInP/GaAs/Ge外延片的受光面蒸镀上电极、在背光面蒸镀下电极,上电极上蒸镀减反射膜。

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