[发明专利]一种石墨烯导电薄膜的制备方法有效
申请号: | 201310311171.1 | 申请日: | 2013-07-23 |
公开(公告)号: | CN103387230A | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 张大勇;金智;史敬元;麻芃 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | C01B31/04 | 分类号: | C01B31/04 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘丽君 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 导电 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,包括:
在电解质溶液中,以石墨为阴极、铜箔为阳极,利用电化学沉积方法在石墨电极表面沉积金属铜;
将表面沉积有金属铜的石墨放入炉中,在氢气和甲烷气氛中,在高温条件下利用化学气相沉积方法在铜表面生长石墨烯;
在石墨烯表面黏贴热释放胶带,并将铜薄膜从石墨基底表面剥离,得到由热释放胶带、石墨烯和铜组成的第一复合膜;
在电解质溶液中,以石墨为阴极、所述第一复合膜为阳极,利用电化学方法腐蚀除去金属铜,得到由热释放胶带和石墨烯组成的第二复合膜,并在阴极石墨表面沉积得到金属铜薄膜;
将所述第二复合膜放置在透明基底表面上,并使石墨烯与透明基底直接接触,在加热条件下除去热释放胶带,得到石墨烯导电薄膜。
2.如权利要求1所述的石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述利用电化学沉积方法在石墨电极表面沉积金属铜的工艺条件为:在石墨阴极和铜箔阳极之间施加直流电压,直流电压大小为0.5-10V,电沉积时间为5-15分钟。
3.如权利要求1所述的石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述利用化学气相沉积方法在铜表面生长石墨烯的生长条件为:生长温度为900-1070℃,氢气和甲烷的气体流量分别为5-100sccm和2-50sccm,生长时间为2-30分钟。
4.如权利要求1所述的石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述利用电化学方法腐蚀除去金属铜的工艺条件为:在石墨阴极和所述第一复合膜阳极之间施加直流电压,直流电压大小为0.5-10V,电沉积时间为5-15分钟。
5.如权利要求1-4中任一所述的石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述电解质溶液是由硫酸铜和硫酸组成的混合溶液,或是由硝酸铜和硝酸组成的混合溶液,或是由醋酸铜和醋酸组成的混合溶液。
6.如权利要求1-4中任一所述的石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述透明基底包括玻璃、石英和PET薄膜。
7.如权利要求1-4中任一所述的石墨烯导电薄膜的制备方法,其特征在于,所述热释放胶带的热释放温度为大于等于90℃。
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