[发明专利]背钝化太阳能电池及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201310261117.0 申请日: 2013-06-26
公开(公告)号: CN103367540A 公开(公告)日: 2013-10-23
发明(设计)人: 徐卓;杨学良;杨德成;赵文超;李高非;胡志岩;熊景峰 申请(专利权)人: 英利集团有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0224
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王宝筠
地址: 071051 *** 国省代码: 河北;13
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摘要:
搜索关键词: 钝化 太阳能电池 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种背钝化太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括:

提供硅片,所述硅片包括硅片基体、覆盖在所述硅片基体正面的掺杂层、及覆盖在所述掺杂层背离所述硅片基体一侧表面上的减反射层;

在所述硅片基体的背面形成背面场,烘干所述背面场,所述背面场具有镂空图案;

在所述背面场背离所述硅片基体的一侧形成背钝化层,所述背钝化层覆盖所述背面场和所述硅片基体的背面;

在所述背钝化层背离所述硅片基体一侧的表面上形成背电极,烘干所述背电极;

在所述减反射层背离所述硅片基体一侧的表面上形成正电极,烘干所述正电极;

对烘干完所述正电极的硅片进行烧结,完成所述背钝化太阳能电池的制作。

2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述镂空图案为栅状图案、花纹图案、折线图案或曲线图案。

3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述镂空图案均匀分布于所述硅片基体的背面。

4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的厚度范围为1nm~100nm,包括端点值。

5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层为单层结构或叠层结构。

6.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的形成材料为介电材料。

7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的形成材料为氧化铝、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的形成材料为本征半导体材料。

9.一种背钝化太阳能电池,其特征在于,采用权利要求1~8任一项所述的制作方法制作,所述背钝化太阳能电池包括:

硅片基体,覆盖在所述硅片基体正面的掺杂层,覆盖在所述掺杂层背离所述硅片基体一侧表面上的减反射层;

位于所述硅片基体背面的背面场,所述背面场具有镂空图案;

位于所述背面场背离所述硅片基体一侧的背钝化层,所述背钝化层覆盖所述背面场和所述硅片基体的背面;

位于所述背钝化层背离所述硅片基体一侧表面上的背电极;

位于所述减反射层背离所述硅片基体一侧表面上的正电极。

10.根据权利要求9所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述镂空图案为栅状图案、花纹图案、折线图案或曲线图案。

11.根据权利要求10所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述镂空图案均匀分布于所述硅片基体的背面。

12.根据权利要求10所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述背钝化层的厚度范围为1nm~100nm,包括端点值。

13.根据权利要求10所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述背钝化层为单层结构或叠层结构。

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