[发明专利]背钝化太阳能电池及其制作方法有效
申请号: | 201310261117.0 | 申请日: | 2013-06-26 |
公开(公告)号: | CN103367540A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 徐卓;杨学良;杨德成;赵文超;李高非;胡志岩;熊景峰 | 申请(专利权)人: | 英利集团有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/068;H01L31/0224 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王宝筠 |
地址: | 071051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钝化 太阳能电池 及其 制作方法 | ||
1.一种背钝化太阳能电池的制作方法,其特征在于,包括:
提供硅片,所述硅片包括硅片基体、覆盖在所述硅片基体正面的掺杂层、及覆盖在所述掺杂层背离所述硅片基体一侧表面上的减反射层;
在所述硅片基体的背面形成背面场,烘干所述背面场,所述背面场具有镂空图案;
在所述背面场背离所述硅片基体的一侧形成背钝化层,所述背钝化层覆盖所述背面场和所述硅片基体的背面;
在所述背钝化层背离所述硅片基体一侧的表面上形成背电极,烘干所述背电极;
在所述减反射层背离所述硅片基体一侧的表面上形成正电极,烘干所述正电极;
对烘干完所述正电极的硅片进行烧结,完成所述背钝化太阳能电池的制作。
2.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述镂空图案为栅状图案、花纹图案、折线图案或曲线图案。
3.根据权利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述镂空图案均匀分布于所述硅片基体的背面。
4.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的厚度范围为1nm~100nm,包括端点值。
5.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层为单层结构或叠层结构。
6.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的形成材料为介电材料。
7.根据权利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的形成材料为氧化铝、氧化硅、氮化硅、氮氧化硅中的至少一种。
8.根据权利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述背钝化层的形成材料为本征半导体材料。
9.一种背钝化太阳能电池,其特征在于,采用权利要求1~8任一项所述的制作方法制作,所述背钝化太阳能电池包括:
硅片基体,覆盖在所述硅片基体正面的掺杂层,覆盖在所述掺杂层背离所述硅片基体一侧表面上的减反射层;
位于所述硅片基体背面的背面场,所述背面场具有镂空图案;
位于所述背面场背离所述硅片基体一侧的背钝化层,所述背钝化层覆盖所述背面场和所述硅片基体的背面;
位于所述背钝化层背离所述硅片基体一侧表面上的背电极;
位于所述减反射层背离所述硅片基体一侧表面上的正电极。
10.根据权利要求9所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述镂空图案为栅状图案、花纹图案、折线图案或曲线图案。
11.根据权利要求10所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述镂空图案均匀分布于所述硅片基体的背面。
12.根据权利要求10所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述背钝化层的厚度范围为1nm~100nm,包括端点值。
13.根据权利要求10所述的背钝化太阳能电池,其特征在于,所述背钝化层为单层结构或叠层结构。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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