[发明专利]一种显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括衬底基板以及位于所述衬底基板上的显示元件结构，其特征在于，所述衬底基板具有晶粒沿预设方向排列的晶体层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述晶体层位于所述衬底基板的一个表面层。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述晶体层的厚度等于整个所述衬底基板的厚度。

4.根据权利要求1至3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述晶体层为铌酸锶钡晶体层。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板，所述衬底基板上的显示元件结构包括薄膜晶体管和像素电极。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示面板为彩膜基板，所述衬底基板上的显示元件结构包括黑矩阵和彩膜。

7.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

制备衬底基板，其中，所述衬底基板具有晶粒沿预设方向排列的晶体层；

在所述衬底基板上形成所述显示元件结构。

8.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备衬底基板，包括：所述晶体层形成在所述衬底基板的一个表面。

9.根据权利要求7所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备衬底基板，包括：所述晶体层充满整个所述衬底基板。

10.根据权利要求8或9所述的显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备衬底基板，具体为：

加热原始玻璃，使所述原始玻璃中形成晶核；

对形成晶核的原始玻璃加热，使晶粒成长；

当达到析晶温度范围时进行晶粒定向微晶化处理，在所述衬底基板中形成晶粒沿预设方向排列的晶体层。

11.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括如权利要求1至6任一项所述的显示基板。

12.根据权利要求11所述的显示装置，其特征在于，所述显示基板为阵列基板和/或彩膜基板；

所述显示装置还包括设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。

13.根据权利要求12所述的显示装置，其特征在于，位于所述阵列基板中的衬底基板和位于所述彩膜基板中的衬底基板的晶体层的偏光方向互相垂直。

14.根据权利要求12或13所述的显示装置，其特征在于，所述阵列基板中的衬底基板中的晶体层位于所述阵列基板远离所述液晶层一侧；

所述彩膜基板中的衬底基板中的晶体层位于所述彩膜基板远离所述液晶层一侧。