[发明专利]一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法以及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体地，涉及一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法以及显示装置。

背景技术

液晶显示装置（LCD：Liquid Crystal Display）因其体积小、功耗低、无辐射等特点已成为目前平板显示装置中的主流产品。液晶显示装置包括对盒的阵列基板、彩膜基板，以及背光源，彩膜基板是液晶显示装置的重要组成部分，也是影响显示效果的关键组件。

通常，液晶显示装置中彩膜基板包括红绿蓝（RGB）三原色彩膜层（Resin）。一方面，背光源发出的光线透过彩膜层后能够实现图像的彩色化；另一方面，彩膜层还同时对背光源发出的光线产生色阻，即对背光源发出的光线会有阻碍，使得背光源发出的光线不能完全透过彩膜层，导致光线透过率较低，从而影响液晶显示装置的显示效果。

据研究发现，彩膜层的厚度越薄产生的色阻相应的会越小，所以目前采用的提高光线的透过率的措施主要是，通过降低彩膜层的厚度来提高光的透过率。但是，受目前彩膜层制备工艺的限制，采用这种措施常出现不良产品，例如：因彩膜层的层厚太薄而容易出现断胶现象，所以彩膜层的层厚只能降低到一定程度，而不能无限制地降低下去，导致光线透过率不能达到理想状况。

可见，通过降低彩膜层厚度并不能完全解决液晶显示装置光线透过率较低的问题。

发明内容

本发明针对现有技术中存在的上述技术问题，提供了一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法及显示装置。所述彩膜基板通过在彩膜层中设置高透亮部，从而使得彩膜基板能更大限度地提高光线的透过率。

所述彩膜基板包括基板、黑矩阵以及不同颜色的彩膜层，黑矩阵设置在基板上，基板上未被黑矩阵覆盖的地方形成亚像素区，彩膜层设置在亚像素区内，所述彩膜层包括间隔设置的多个高亮透光部，高亮透光部的光线透过率大于彩膜层其它部分的光线透过率。

优选的，所述高亮透光部为开设在彩膜层中的通孔或者盲孔，通孔或者盲孔均匀设置在彩膜层中。

优选的，所述通孔或者所述盲孔在彩膜层中呈网状分布，通孔或者盲孔沿其高度方向上的中心线与基板垂直。

优选的，所述通孔或者所述盲孔的横截面的形状为正方形或正六边形。

优选的，正方形或正六边形的对角线长度范围为8-12μm。

优选的，所述通孔或者所述盲孔的横截面的形状为圆形。

优选的，所述圆形的直径范围为8-12μm。

优选的，所述彩膜基板还包括平坦层，平坦层设置在彩膜层的上方，且平坦层填充通孔或者盲孔，平坦层的顶面与基板平行。

优选的，所述彩膜层包括矩阵排列的红色彩膜层、蓝色彩膜层和绿色彩膜层。

本发明还提供一种显示装置，包括上述彩膜基板。

本发明提供的彩膜基板及显示装置的技术方案中，在彩膜基板的彩膜层中设置有高亮透光部，所述高亮透光部通过降低自身的色阻，使得提高彩膜基板光线的透过率不再需要无限制地降低整个彩膜层的厚度，从而使得彩膜基板在提高光线透过率的同时，不会再出现断胶现象，同时也改善了显示装置的显示效果。

本发明还提供一种彩膜基板的制备方法，包括采用构图工艺形成彩膜层以及彩膜层中的高亮透光部的步骤。

优选的，所述高亮透光部为形成在彩膜层上的通孔结构，所述构图工艺包括：

涂覆树脂材料层；

采用曝光工艺形成树脂材料完全保留区域和树脂材料完全不保留区域；

采用显影工艺去除树脂材料不保留区域的树脂材料层，形成高亮透光部。

优选的，所述高亮透光部为形成在彩膜层上的盲孔结构，所述构图工艺包括：

涂覆树脂材料层；

采用半曝光工艺或灰阶曝光工艺形成树脂材料完全保留区域、树脂材料部分保留区域和树脂材料完全不保留区域；

采用显影工艺去除部分保留区域的树脂材料层，形成高亮透光部。本发明提供的彩膜基板的制备方法通过在形成彩膜层以及彩膜层中的高亮透光部的步骤中采用掩模板对树脂材料层进行曝光工艺和显影工艺，从而能相应地制备出彩膜层以及彩膜层中的高亮透光部，所述高亮透光部通过降低自身的色阻，使得彩膜基板光线的透过率大大提高，同时也改善了显示装置的显示效果。

附图说明

图1为实施例1中彩膜基板的剖示图；

图2为对应图1中彩膜基板的亚像素区内彩膜层的平面示意图；

图3为实施例1彩膜层中高亮透光部为通孔时的曝光示意图；

图4为实施例2中彩膜基板的剖示图；