[发明专利]一种彩膜基板、彩膜基板的制备方法以及显示装置有效
| 申请号: | 201310148632.8 | 申请日: | 2013-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN103257475A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
| 发明(设计)人: | 陈玉琼;尹大根;王英;李圭铉;王丹 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 彩膜基板 制备 方法 以及 显示装置 | ||
1.一种彩膜基板,包括基板、黑矩阵以及不同颜色的彩膜层,所述黑矩阵设置在所述基板上,所述基板上未被所述黑矩阵覆盖的地方形成亚像素区,所述彩膜层设置在所述亚像素区内,其特征在于,所述彩膜层包括间隔设置的多个高亮透光部,所述高亮透光部的光线透过率大于所述彩膜层其它部分的光线透过率。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述高亮透光部为开设在所述彩膜层中的通孔或者盲孔,所述通孔或者所述盲孔均匀设置在所述彩膜层中。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述通孔或者所述盲孔在所述彩膜层中呈网状分布,所述通孔或者所述盲孔沿其高度方向上的中心线与所述基板垂直。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述通孔或者所述盲孔的横截面的形状为正方形或正六边形。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,所述正方形或所述正六边形的对角线长度范围为8-12μm。
6.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述通孔或者所述盲孔的横截面的形状为圆形。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板,其特征在于,所述圆形的直径范围为8-12μm。
8.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜基板还包括平坦层,所述平坦层设置在所述彩膜层的上方,且所述平坦层填充所述通孔或者所述盲孔,所述平坦层的顶面与所述基板平行。
9.根据权利要求1-8任意一项所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩膜层包括矩阵排列的红色彩膜层、蓝色彩膜层和绿色彩膜层。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-9任意一项所述的彩膜基板。
11.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,包括采用构图工艺形成彩膜层以及彩膜层中的高亮透光部的步骤。
12.根据权利要求11所述的彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述高亮透光部为形成在彩膜层上的通孔结构,所述构图工艺包括:
涂覆树脂材料层;
采用曝光工艺形成树脂材料完全保留区域和树脂材料完全不保留区域;
采用显影工艺去除树脂材料不保留区域的树脂材料层,形成高亮透光部。
13.根据权利要求11所述的彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述高亮透光部为形成在彩膜层上的盲孔结构,所述构图工艺包括:
涂覆树脂材料层;
采用半曝光工艺或灰阶曝光工艺形成树脂材料完全保留区域、树脂材料部分保留区域和树脂材料完全不保留区域;
采用显影工艺去除部分保留区域的树脂材料层,形成高亮透光部。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310148632.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:矿井掘进面用操作平台
- 下一篇:一种微孔高分子聚合物分子量调节装置





