[发明专利]一种COA阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置

说明书

技术领域

本发明属于液晶显示技术领域，具体涉及一种COA阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置。 

背景技术

COA阵列基板是指将彩色滤光层13制作在TFT基底11（TFT基底包括基底111、薄膜晶体管（TFT）112）上，通过该设计，可以减小黑矩阵的宽度，提高显示区域的开口率，现有的COA阵列基板的结构如图1所示，图2为形成过孔15的曝光过程的示意图。 

目前将彩色滤光层制作在TFT基底上的方法主要通过构图工艺或喷墨打印法，目前采用的喷墨打印法均需要单独制作挡墙结构，在制作完彩色滤光层13（彩色滤光层制作需要在TFT基底上涂覆保护层12后，再通过构图工艺形成。）后再将挡墙去除，之后制作平坦化层14，形成COA阵列基板结构，同时还需要单独的构图工艺形成过孔15，因此该工艺过程复杂，生产效率低，成本较高。 

发明内容

本发明所要解决的技术问题包括，针对现有的阵列基板的制备方法复杂、生产效率低、成本较高的问题，提供一种可以减少制造工艺、降低成本，提高生产效率的阵列基板的制备方法、阵列基板及显示装置。 

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种COA阵列基板的制备方法，包括TFT基底和设置在TFT基底上的彩色滤光层，包括如下步骤：在TFT基底上的保护层上涂光刻胶层，所述光刻 胶层同时作为平坦化层；通过光刻工艺在光刻胶层中形成彩膜容纳孔；在彩膜容纳孔中制作彩色滤光层。 

本发明中光刻胶层的流动性好，故段差很小，所以光刻胶层可以同时作为平坦化层，通过构图工艺，将光刻胶层曝光、显影，形成包括彩膜容纳孔的图形，与现有的阵列基板的制备方法相比较不用单独制作平坦化层，故其工艺步骤简单，同时节约成本。 

优选的是，所述在彩膜容纳孔中制作彩色滤光层的方法为喷墨打印法。 

优选的是，还包括：在所述COA阵列基板上形成过孔。 

进一步优选的是，所述COA阵列基板为OLED阵列基板，所述在所述COA阵列基板上形成过孔包括：采用一次构图工艺形成彩膜容纳孔和第一通孔，所述第一通孔贯穿平坦层；对第一通孔区域的保护层进行刻蚀，形成露出薄膜晶体管的漏极的过孔；在彩色滤光层上制作OLED阳极，所述OLED阳极通过所述过孔与薄膜晶体管的漏极连接。 

进一步优选的是，所述阵列基板为TFT-LCD阵列基板，所述在所述COA阵列基板上形成过孔包括：采用一次构图工艺形成彩膜容纳孔和第一通孔，所述第一通孔贯穿平坦层；对第一通孔区域的保护层进行刻蚀，形成露出薄膜晶体管的漏极的过孔；在彩色滤光层上制作像素电极，所述像素电极通过所述过孔与薄膜晶体管的漏极连接。 

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种COA阵列基板，包括位于保护层12上的光刻胶层21，所述光刻胶层21同时作为平坦化层，且其中形成有彩膜容纳孔32，彩膜容纳孔32中形成有彩色滤光层13。 

由于本发明的阵列基板的光刻胶层不仅在其中形成彩膜容纳孔，同时又作为平坦化层，所以该阵列基板的成本低。 

优选的是，所述COA阵列基板为OLED基板，所述COA阵列基板上还设置有过孔，OLED阳极通过所述过孔与OLED基板上的薄膜晶体管的漏极连接。 

优选的是，所述阵列基板为TFT-LCD阵列基板，所述COA阵列基板上还设置有过孔，像素电极通过所述过孔与TFT-LCD阵列基板上的薄膜晶体管的漏极连接。 

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示装置，包括上述阵列基板。 

由于该显示装置包括上述阵列基板，所以成本低，制作工艺步骤简化。 

附图说明

图1为现有的COA阵列基板的示意图； 

图2为本发明实施例1的阵列基板制备方法中对COA阵列基板的光刻胶层曝光的示意图； 

图3为本发明实施例1的COA阵列基板制备方法中对COA阵列基板的光刻胶层曝光后的示意图； 

图4为本发明实施例1的COA阵列基板制备方法中制作COA阵列基板彩色滤光层的示意图；以及， 

图5为本发明实施例1的COA阵列基板制备方法中制作COA阵列基板上过孔的示意图。 

其中附图标记为：11、TFT基底；111、基底；112、薄膜晶体管；12、保护层；13、彩色滤光层；14、平坦化层；15、过孔；21、光刻胶层；22、掩膜板；31、第一通孔；32、彩膜容纳孔。 

具体实施方式