[发明专利]单片式无金属痕电容式触控玻璃及其制造工艺

说明书

技术领域

本发明涉及无金属痕带电容式触摸功能的盖板玻璃（Non-Metal reflective Patterned Touch Glass）。

背景技术

目前市场上主流的以玻璃基材为主的投射式电容触摸屏面板的构成多采用将触控玻璃（Touch Sensor）与盖板玻璃（Cover Glass）贴合在一起的产品。这种设计的主要问题是工艺复杂，成本高，组件厚度太厚，重量太重，贴合良率低。已经越来越不适应电子数码产品更轻更薄更廉的发展方向。另外由于采用的是两片玻璃的贴合，整个电容式触摸屏组件的透光性较差，无法满足高清液晶显示屏的要求，在户外使用效果更差。

就此，各个触控玻璃（Touch sensor）的制造商纷纷推出一片触控盖板玻璃的方案，将传统的触控玻璃和盖板玻璃贴合在一起的触摸屏变成一片触控盖板玻璃触摸屏。而由于是一片玻璃的触控方案，其触控的表面是在触控盖板玻璃的内表面，按照单面触控玻璃的方案，中间会有规则的金属线（宽度5-20微米，长度50-300微米不等），虽然不影响外观，但是大多数消费者都很难接受极易看到这些可视区的金属线。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是实现一种单片式无金属痕电容式触控玻璃。

为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：单片式无金属痕电容式触控玻璃，由保护玻璃和树脂保护层夹持导电层构成，所述的保护玻璃与导电层之间设有二氧化硅保护层。

所述的导电层由保护玻璃向树脂保护层方向依次设有ITO图层、绝缘架桥层和金属跨桥导体层，所述的导电层边缘依次设有边框和金属引线。

所述的导电层边缘边框和金属引线之间设有一层二氧化硅保护层绝缘。防止边框具有导电性，导致金属线短路。

所述的二氧化硅保护层厚度为100 ? -500 ?。

所述的保护玻璃厚度为0.9-1.3mm，所述的绝缘架桥层厚度为1.2-1.8μm。

单片式无金属痕电容式触控玻璃的制造工艺如下： 

步骤1、保护玻璃采用浮法玻璃基板并进行化学钢化，再在浮法玻璃表面用光刻的方法做边框；

步骤2、在具有边框的保护玻璃一面采用真空镀膜方式镀一层二氧化硅保护层；

步骤3、在二氧化硅保护层外再镀真空镀膜ITO膜；

步骤4、对ITO膜上进行曝光、蚀刻制作ITO图层；

步骤5、在ITO图层上用光罩涂布一层1.2-1.8um厚绝缘架桥层；

步骤6、再将此带边框、 ITO图层和绝缘架桥层的浮法玻璃采用真空磁控溅射镀金属膜，并用光刻方法按设计刻蚀图案制成金属跨桥导体层和金属引线；

步骤7、涂布一层有机透明材料图形构成一层树脂保护层；

步骤8、CNC切割成形。

进一步的，所述的步骤1边框、步骤4、步骤5和步骤6金属膜的光刻依次进行涂布，烘烤，曝光、显影，蚀刻工艺将其制作成所需图形。

  本发明的优点在于不仅解决两片玻璃造成的工艺复杂，结构复杂的问题，也可以降低投射光的反射率从而使显示更清晰，尤其是显示器可视区没有金属线反射，提高的产品的整体外观品质。

附图说明

下面对本发明说明书中每幅附图表达的内容及图中的标记作简要说明：

图1为单片式无金属痕电容式触控玻璃层结构图；

上述图中的标记均为：1、保护玻璃；2、二氧化硅保护层；3、边框；4、ITO图层；5、绝缘架桥层；6、金属跨桥导体层；7、金属引线；8、树脂保护层。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等，作进一步详细的说明，以帮助本领域技术人员对本发明的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。

参见图1可知，本发明单片式无金属痕电容式触控玻璃，由保护玻璃1和树脂保护层8夹持导电层构成，并在保护玻璃1与导电层之间设有一层二氧化硅保护层2，二氧化硅保护层2厚度为10? -500?。