[发明专利]单片式无金属痕电容式触控玻璃及其制造工艺

权利要求书

1.单片式无金属痕电容式触控玻璃，由保护玻璃（1）和树脂保护层（8）夹持导电层构成，其特征在于：所述的保护玻璃（1）与导电层之间设有二氧化硅保护层（2）。

2.根据权利要求1所述的电容式触控玻璃，其特征在于：所述的导电层由保护玻璃（1）向树脂保护层（8）方向依次设有ITO图层（4）、绝缘架桥层（5）和金属跨桥导体层（6），所述的导电层边缘依次设有有色边框（3）和金属引线（7）。

3.根据权利要求2所述的电容式触控玻璃，其特征在于：所述的导电层边缘边框（3）和金属引线（7）之间设有一层二氧化硅保护层（2）。

4.根据权利要求1、2或3所述的电容式触控玻璃，其特征在于：所述的二氧化硅保护层（2）厚度为100 ? -500 ?。

5.根据权利要求4所述的电容式触控玻璃，其特征在于：所述的保护玻璃（1）厚度为0.9-1.3mm，所述的绝缘架桥层（5）厚度为1.2-1.8μm。

6.单片式无金属痕电容式触控玻璃的制造工艺，其特征在于：

步骤1、保护玻璃（1）采用浮法玻璃基板并进行化学钢化，再在浮法玻璃表面用光刻的方法做边框（3）；

步骤2、在具有边框（3）的保护玻璃（1）一面采用真空镀膜方式镀一层二氧化硅保护层（2）；

步骤3、在二氧化硅保护层（2）外再镀真空镀膜ITO膜；

步骤4、对ITO膜上进行曝光、蚀刻制作ITO图层（4）；

步骤5、在ITO图层（4）上用光罩涂布一层1.2-1.8um的绝缘架桥层（5）；

步骤6、再将此带边框（3），ITO图层（4）和绝缘架桥层（5）的浮法玻璃采用真空磁控溅射镀金属膜，并用光刻方法按设计刻蚀图案制成金属跨桥导体层（6）和金属引线（7）；

步骤7、涂布一层有机透明材料图形构成一层树脂保护层（8）；

步骤8、CNC切割成形。

7.根据权利要求6所述的制造工艺，其特征在于：所述的步骤1边框（3）、步骤4的ITO膜、步骤5绝缘架桥层和步骤6金属膜的图形依次利用涂布，烘烤，曝光、显影，蚀刻工艺将其制作成所需图形。