[发明专利]一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法有效

专利信息
申请号: 201310021911.8 申请日: 2013-01-22
公开(公告)号: CN103118506A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 胡俊 申请(专利权)人: 金悦通电子(翁源)有限公司
主分类号: H05K3/42 分类号: H05K3/42
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 张帅
地址: 512627 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 焊盘上导通孔 电镀 方法
【权利要求书】:

1.一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法,包括顺序执行的以下步骤:

步骤100,机械钻孔:按照生产工艺要求钻出符合要求的盲孔;

步骤101,沉铜:在PCB板孔内沉积一层化学铜;

步骤102,板电镀:在PCB板孔内镀上一层铜,使孔导通;

其特征在于,所述步骤102后还包括顺序执行的下述步骤:

步骤103,树脂塞孔:在盲孔内塞满树脂;

步骤104,磨平:将露出板面的树脂打磨平;

步骤105,二次钻孔:按照生产工艺要求钻出符合要求的通孔;

步骤106,二次沉铜:在所述通孔内沉积一层化学铜;

步骤107,二次板电镀:在塞有树脂的通孔及PCB板面镀上一层铜,使通孔导通。

2.根据权利要求1所述的一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法,其特征在于,所述步骤101中经化学铜沉积后PCB板背光级数大于9级。

3.根据权利要求1所述的一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法,其特征在于,所述步骤102中孔内铜的厚度为5~8μm。

4.根据权利要求3所述的一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法,其特征在于,所述步骤102中电镀液的浓度成分具体为:硫酸H2SO4浓度为150~190g/L, 硫酸铜CuSO4浓度为65g/L~85g/L,光剂浓度为4-6ml/L , 盐酸HCL浓度 60mg/L~80 mg/L。

5.根据权利要求1所述的一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法,其特征在于,所述步骤103中包括:控制刮刀压力在3~8 kg/cm2,将树脂塞进盲孔中,保证塞孔饱满度为40%~90%,然后进行烤板,对树脂塞孔后的PCB板在160℃的温度烤板4小时。

6.根据权利要求5所述的一种焊盘上导通孔的电镀填孔方法,其特征在于,所述步骤104中采用沙袋磨平,所述磨板速率为4m/min,所述磨痕为0.5~1.5cm,磨板后PCB板尺寸变形小于2mil。

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