[发明专利]用于涂覆物体的系统和方法

权利要求书

1.用于涂覆物体的系统，包括：

(a) 预处理单元；

(b) 第一加工单元；

(c) 第一后处理单元；和

(d) 一个或多个各自配置为与物体接合和使所述物体围或绕两个或更多个轴旋转的涂覆设备；

其中将所述一个或多个涂覆设备配置为在所述预处理单元与所述第一 加工单元之间和在所述第一加工单元与所述第一后处理单元之间传输。

2.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括轨道结构，所述轨道结构配置为在所述预处理单元与所述第一后处理单元之间传输所述涂覆设备。

3.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括位于所述预处理单元与所述第一加工单元之间的第一转移单元和位于所述第一加工单元和所述第一后处理单元之间的第二转移单元。

4.根据权利要求3所述的系统，其进一步包括被配置为在所述预处理单元与所述第一后处理单元之间传输一个或多个涂覆设备的轨道结构。

5.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括位于所述预处理单元之前以接收所述一个或多个涂覆设备的入口。

6.根据权利要求5所述的系统，其进一步包括位于所述后处理单元之后的出口。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述预处理单元包含等离子体头。

8.根据权利要求7所述的系统，其中所述等离子体头包含六轴等离子体枪.

根据权利要求1所述的系统，其中所述加工单元包含第一涂覆容器.

根据权利要求5所述的系统，其中所述第一涂覆容器配置为当所述涂覆设备中的一个在所述第一容器上方时垂直向上和向下平移.

根据权利要求5所述的系统，其中所述涂覆设备配置为当所述涂覆设备在所述第一容器上方时垂直向下和向上平移.

根据权利要求5所述的系统，进一步包括与所述第一涂覆容器流体连通的第一流体存储容器。

9.根据权利要求8所述的系统，进一步包括第二流体存储容器。

10.根据权利要求9所述的系统，进一步包括配置为赋予超声能到所述第一流体涂覆容器、所述第一流体存储容器、所述第二流体存储容器或所述第一涂覆容器与所述存储容器之间的所述流体连通装置中的一个或多个超声换能器。

11.根据权利要求1所述的系统，其中所述后处理单元包括UV、可见光和IR子单元中的至少一个。

12.根据权利要求11所述的系统，其中可以改变至少一个所述子单元中的光照的波长、强度和持续时间中的至少一个。

13.根据权利要求1所述的系统，其中所述涂覆设备包括：

第一万向节，其连接到第一机构以围或绕第一轴旋转所述第一万向节；

第二万向节，其连接到所述第一万向节以允许围或绕第二轴旋转；

第二机构，其连接到所述第二万向节以围或绕所述第二轴旋转所述第二万向节；和

连接到所述第二万向节的物体支架，其中所述物体支架可围或绕所述第一轴和所述第二轴旋转。

14.根据权利要求1所述的系统，其中所述涂覆设备包括：

第一万向节，其连接到第一机构以围或绕第一轴旋转所述第一万向节；

第二万向节，其连接到所述第一万向节以允许围或绕第二轴旋转；

第三万向节，其连接到所述第二万向节以允许围或绕第三轴旋转；

第二机构，其连接到所述第二万向节以围或绕所述第二轴旋转所述第二万向节；

第三机构，其连接到所述第三万向节以围或绕所述第三轴旋转所述第三万向节；和

连接到所述第三万向节的物体支架，其中所述物体支架可围或绕所述第一、第二和第三轴旋转。

15.根据权利要求1所述的系统，进一步包括：

(e)第二加工单元；和

(f)第二后处理单元；

其中所述第二加工单元被配置为从所述第一后处理单元接收所述涂覆设备和所述第二后处理单元被配置为从所述第二加工单元接收所述涂覆设备。

16.根据权利要求15所述的系统，其中所述第一加工单元被配置为从所述第二后处理单元接收所述涂覆设备以形成所述涂覆设备的传输回路。