[发明专利]感光性树脂组合物、使用其的光致抗蚀膜、抗蚀图案的形成方法以及导体图案的形成方法

权利要求书

1.一种感光性树脂组合物，其特征在于，其含有(A)粘结剂聚合物、(B)具有氨基的能够光聚合的单体、(C)光聚合引发剂以及(D)具有羧基的苯并三唑衍生物。

2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其特征在于，(B)具有氨基的能够光聚合的单体为下述通式(I)表示的能够光聚合的不饱和化合物，

其中，式(I)中的R₁为H或者CH₃；R₂以及R₃分别独立地表示选自由氢原子、烷基、烷氧基以及卤素基团所组成的组中的基团，R₂以及R₃可以相互键合形成包含N的环；X为碳原子数1～10的亚烷基，或(C₂H₄O)m或(C₃H₆O)n所表示的、m、n分别为1～10的整数的聚氧亚烷基；聚氧亚烷基为无规聚合或者嵌段聚合。

3.根据权利要求1或2所述的感光性树脂组合物，其特征在于，相对于100重量份(A)粘结剂聚合物，含有0.01～30重量份(B)具有氨基的能够光聚合的单体。

4.根据权利要求1～3的任一项所述的感光性树脂组合物，其特征在于，相对于100重量份(A)粘结剂聚合物，含有0.01～2重量份(D)具有羧基的苯并三唑衍生物。

5.根据权利要求1～4的任一项所述的感光性树脂组合物，其特征在于，(A)粘结剂聚合物具有羧基，其酸值为100～300mgKOH/g。

6.一种光致抗蚀膜，其特征在于，其包含由权利要求1～5的任一项所述的感光性树脂组合物形成的感光性树脂组合物层和支撑层。

7.一种抗蚀图案的形成方法，其包括：使用权利要求6所述的光致抗蚀膜在基材上形成感光性树脂组合物层，并进行曝光、显影。

8.一种导体图案的形成方法，其包括：使用权利要求6所述的光致抗蚀膜在电路形成用基板上形成感光性树脂组合物层，并进行曝光、显影，形成抗蚀图案；以及

对形成有所述抗蚀图案的所述电路形成用基板进行蚀刻或者镀覆，剥离所述抗蚀图案。