[实用新型]用于湿法化学工艺的设备有效
申请号: | 201220451506.0 | 申请日: | 2012-09-05 |
公开(公告)号: | CN203260558U | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 约尔格·弗兰茨克;马蒂亚斯·尼泽;于尔根·施韦希肯迪克 | 申请(专利权)人: | 睿纳有限责任公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京思益华伦专利代理事务所(普通合伙) 11418 | 代理人: | 李烨;赵飞 |
地址: | 德国居*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 湿法 化学 工艺 设备 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种用于湿法化学工艺的设备,以用于借助处理液在形成从处理液逸出的气态物质的情况下对衬底进行湿法化学处理。更准确地,本实用新型涉及可替换的处理池。
背景技术
通常使用容纳相应处理液的处理池来对例如为硅衬底(晶圆)的物体进行湿法化学的处理,所述处理例如涉及对这种衬底进行移除(蚀刻)、覆层或清洗。根据期望的处理,这为蚀刻液、覆层液(例如电解液)、或清洗液。随后,衬底或者成堆叠状地引入到池中(“批量处理”),或者将所述衬底以连续式方法运输经过处理液或者沿着处理液运输(“连续式处理”),其中所述衬底在处理时间内保留于所述池中。
例如从US5,000,827和DE102007020449中已知适合于成堆叠状地处理衬底的设备的实例。所述参考文献示出用于处理置于反应器壳体之上的衬底的所谓的溢流反应器。借助于泵输送的处理液穿过反应器壳体向上流动,其中在衬底和反应器壳体的上部端部之间设有一定距离,使得形成构造为溢流口的环形间隙。
大多数处理类型的共同点是形成气态的反应产物和/或蒸汽,以下简称气态物质。当所述气态物质到达周围空气中时,对操作者而言能够是一种健康危害。无论如何,所述气态物质表示相应池中处理液的损失,并且所述气态物质能够导致污染相邻的处理液。因此,紧迫需要或期望对所述气态物质和/或其冷凝物进行容纳和尤其对其进行再循环。
当如在所述的溢流池中的处理液达到至所述池的上棱边时,所述处理液自身为另外一个问题。处理液由于液体液位的有意或随机的波动而能够离开处理池。当直接在棱边处溢流的液体在池的外壁处向下流淌时,溅起的液体也能够越过更远的距离,并且在那里可能引起损害。此外,通过对流淌的液体进行蒸发或持续地(再)反应,也从所述液体中 泄露出不应到达周围环境中的气态物质。因此,仅向上作用的抽吸装置没有提供令人满意的保护。
因此,已知构造成双层壁的池。通过双层壁的中间腔将积累在处理液表面的气态物质以及溢流出的或喷出的处理液向下引出,其中能够被动地(通过重力)和/或主动地(通过抽吸)进行所述引出。在池之下存在有容纳容器,液体渗入所述容纳容器中,或者气态物质在所述容纳容器中冷凝并且作为液体而被清除掉或重新输送给反应池。清楚的是,必须在池的外壁和位于所述池之下的容纳容器之间设置密封部,以便禁止气态物质和液体穿过所述部件间的间隙(“密封间隙”)流出。典型地,对此使用不能够扩散的(气密的)固体密封部。为了形成足够的密封作用,所述固态密封部需要高的挤压力,所述高的挤压力仅借助于螺钉等提供。
也已知所谓的“基于液体的密封部”,其中用液体代替固体来满足密封功能。在DE-PS281482中示出具有作为顶盖的、可垂直移动的钟形槽的气体容器,其中可移动组件之间的密封部是气密的、基于液体的密封部。因为间隙是可移动的,所以将气密的液体膜保持在间隙中变得困难。此外,需要使用特定的密封液体。
此外,由于工艺顺序的改变、由于定期的检验工作、或者由于要短时间内执行的维护工作,替换处理池能够是必要的。对此,通常需要一系列的措施,其中尤其强调将处理池从用于容纳的容器中脱离和可靠地提升池。对上述密封部的应用有必要松开多个螺钉,这是浪费时间的并且(在随后固定替换池时)还是容易出错的。对池精确地以及谨慎地进行提升以及对替换池的准确定位也是必要的,以便持续地确保期望的密封作用。
实用新型内容
因此,本实用新型的目的是提供一种具有密封部的设备,所述设备可实现对用于湿法化学工艺的处理池进行简单地以及可靠地替换。此外,所述解决方案应尽可能地是低成本的。
所述目的如下实现:用于湿法化学工艺的设备,以用于借助处理液在形成从所述处理液中逸出的气态物质的情况下对衬底进行湿法化学 处理,所述用于湿法化学工艺的设备包括:构成为双层壁的并且能够替换的处理池,所述处理池的外壁和内壁在构成中间腔的情况下彼此隔开;和设置在所述处理池之下的、用于容纳从所述处理池流出的气态物质和/或处理液的容器,所述流出的气态物质和/或处理液能够通过中间腔排出到所述用于容纳的容器中;以及设置在所述处理池的所述外壁和所述用于容纳的容器之间的过渡区域中的密封部,以相对于周围环境屏蔽所述气态物质和/或处理液,其中所述密封部是基于液体的密封部,通过在所述过渡区域中提供液体收集容积部实现构成所述密封部。其他有利的实施形式从下文以及附图得出。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造