[实用新型]晶舟辅助装置及原子层沉积系统有效
申请号: | 201220327712.0 | 申请日: | 2012-07-06 |
公开(公告)号: | CN202705467U | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 刘焕新 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辅助 装置 原子 沉积 系统 | ||
1.一种晶舟辅助装置,安装于晶舟上,所述晶舟包括竖向设置的晶舟支架和若干水平设置的晶圆底座,所述晶圆底座是半环状结构,所述晶圆底座沿晶舟支架纵向均匀设置于所述晶舟支架上,其特征在于:所述晶舟辅助装置包括竖向设置的辅助物支架与至少两层水平设置的辅助物底座,所述辅助物底座是半环状结构,所述辅助物底座固定安装在所述辅助物支架上,所述辅助物底座和所述晶圆底座的形状和大小相对应,当晶舟辅助装置安装于晶舟上时,所述辅助物底座和对应位置的晶圆底座围合组成一个圆环形结构。
2.如权利要求1所述的晶舟辅助装置,其特征在于:所述辅助物支架与所述辅助物底座的外周处固定连接。
3.如权利要求1所述的晶舟辅助装置,其特征在于:所述辅助物支架包括两根竖杆。
4.如权利要求3所述的晶舟辅助装置,其特征在于:辅助物支架的两根竖杆与晶舟支架的三根竖杆均匀环绕设置在晶圆底座与辅助物底座组成的圆环形结构的圆周外侧。
5.如权利要求1所述的晶舟辅助物,其特征在于:所述辅助物底座的数量为两个,分别与晶舟上最高的晶圆底座与最低的晶圆底座围合。
6.如权利要求1所述的晶圆辅助物,其特征在于:若干所述辅助物底座与若干晶圆底座一一对应,互相围合。
7.一种原子层沉积系统,至少包括晶舟与沉积炉管,所述晶舟设在所述沉积炉管内,其特征在于:还包括如权利要求1至6中任意一项所述的晶舟辅助装置,所述晶舟辅助装置置于所述沉积炉管内与所述晶舟安装在一起。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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