[发明专利]单体,聚合物和光致抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 201210597635.5 | 申请日： | 2012-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN103121951A | 公开（公告）日： | 2013-05-29 |
| 发明（设计）人： | 孙纪斌;Y·C·裴;朴钟根;李承泫;C·安德斯 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C07C67/11 | 分类号： | C07C67/11;C07C69/67;G03F7/09;C08F220/32;C08F220/28;C08F220/18;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 单体 聚合物 光致抗蚀剂 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种以下通式(I)的单体：
其中：R1表示氢或甲基。
2.根据权利要求1的单体，其中R1表示氢。
3.根据权利要求1的单体，其中R1表示甲基。
4.一种包含权利要求1的单体的聚合单元的聚合物。
5.根据权利要求4的聚合物，其中其中R1表示氢。
6.根据权利要求4的聚合物，其中其中R1表示甲基。
7.根据权利要求4的聚合物，进一步包含包含酸不稳定基团的聚合单元。
8.根据权利要求7的聚合物，进一步包含具有内酯的聚合单元。
9.一种光致抗蚀剂组合物，包含权利要求4至8中任一项所述的聚合物和光产酸剂。
10.一种涂覆的基材，所述涂覆的基材包含基材、基材上的一层或多层待图形化的层和一层或多层待图形化的层上的权利要求9的光致抗蚀剂组合物层。
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