[发明专利]一种TFT-LCD阵列基板及制作方法、显示装置无效

专利信息
申请号: 201210520833.1 申请日: 2012-12-06
公开(公告)号: CN103018988A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 王骁;曹昆 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1368;H01L21/77
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 tft lcd 阵列 制作方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种TFT-LCD阵列基板,其特征在于,包括:透明基板,设置在所述透明基板上的公共电极线,交叉设置在所述透明基板上的栅线及数据线,设置在所述栅线及数据线限定的像素区域内的像素电极、公共电极和第一薄膜晶体管;其中所述像素电极和所述公共电极在加电后形成多维电场;所述第一薄膜晶体管包括第一栅极、第一源极和第一漏极,所述第一栅极与所述栅线连接,所述第一源极与所述数据线连接,所述第一漏极与所述像素电极连接;

而且,所述阵列基板还包括:第二薄膜晶体管,所述第二薄膜晶体管包括第二栅极、第二源极和第二漏极;

所述第二栅极与第n行栅线电连接,所述第n行栅线为除最后一行栅线之外的任一行栅线;

所述第二漏极对应的与第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的像素电极电连接;

所述第二源极与所述公共电极线电连接;其中,在所述阵列基板的一帧栅线扫描过程中,所述第n行栅线比所述第n+1行栅线先扫描。

2.根据权利要求1所述的TFT-LCD阵列基板,其特征在于,所述第n行栅线驱动的第二薄膜晶体管的个数与所述第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的个数相同;

所述第二漏极对应的与第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的像素电极电连接包括:

所述第n行栅线驱动的每个所述第二薄膜晶体管的第二漏极一一对应地与第n+1行栅线驱动的每个第一薄膜晶体管对应的像素电极电连接。

3.根据权利要求1所述的TFT-LCD阵列基板,其特征在于,所述第二漏极对应的与第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的像素电极电连接包括:

所述第二漏极对应的与第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的第一漏极连接,或者对应的与第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的像素电极连接。

4.根据权利要求1所述的TFT-LCD阵列基板,其特征在于,还包括:与所述公共电极线电连接的公共电极;

所述第二源极与所述公共电极线电连接包括:所述第二源极与所述公共电极连接。

5.根据权利要求4所述的TFT-LCD阵列基板,其特征在于,所述公共电极和所述像素电极同层设置,所述公共电极包含多个第一条形电极,所述像素电极包含多个第二条形电极,所述第一条形电极和所述第二条形电极间隔设置。

6.根据权利要求4所述的TFT-LCD阵列基板,其特征在于,所述公共电极和所述像素电极异层设置,其中位于上层的电极包含多个条形电极,位于下层的电极包含多个条形电极或为平板形。

7.一种TFT-LCD阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:

在透明基板上制作形成公共电极线,栅线及数据线,像素电极,公共电极,第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管;其中所述像素电极和所述公共电极在加电后形成多维电场;形成的所述第一薄膜晶体管包括第一栅极、第一源极和第一漏极;形成的所述第二薄膜晶体管包括第二栅极、第二源极和第二漏极;形成的所述第二栅极与第n行栅线电连接,形成的所述第n行栅线为除最后一行栅线之外的任一行栅线;形成的所述第二漏极对应的与第n+1行栅线驱动的第一薄膜晶体管的像素电极电连接;所述第二源极与所述公共电极线电连接;其中,在所述阵列基板的一帧栅线扫描过程中,所述第n行栅线比所述第n+1行栅线先扫描。

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