[发明专利]关键尺寸条状图形的生成方法

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种关键尺寸条状图形的生成方法。

背景技术

随着CMOS半导体器件工艺的发展以及电子设计自动化（EDA，Electronic Design Automat ion）工具的发展，完成效率对于企业竞争力起着越来越大的作用。

关键尺寸条状图形（CD Bar，Critical Dimension Bar）是集成电路制造公司在芯片生产中用于测量特征线宽尺寸的图形。一般CD Bar的版图绘制，除了全手动绘制，就是通过版图工具产生标准单元，需要人工调用标准单元，进行参数修改设置、排列来生成所需要的版图。

上述方法比较耗费时间、人力，而且重复性和出错率都很高，对于集成电路制造行业，这些时间的消耗以及出错率，无疑会延误一个产品的生产周期。

因此，有必要对现有的CD Bar的生成方法进行改进，以提高CD Bar的生成效率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种关键尺寸条状图形的生成方法，以提高关键尺寸条状图形的生成效率。

为解决上述问题，本发明提出一种关键尺寸条状图形的生成方法，该方法在画关键尺寸的过程中，采用单元库参数法，通过改变参数来确定关键尺寸条状图形的单个单元，并且将所述单元按所需要求进行分类，用可以清楚识别的参数描述，实现单元至参数的转化，在此之后就只需控制参数来生成关键尺寸条状图形。

可选的，该方法具体包括如下步骤：

根据光刻版图设计规则的要求，利用第一EDA工具生成关键尺寸条状图形基本图形；

将关键尺寸条状图形的变量设置成随光刻版图设计规则中不同式样的值的不同而变化的参数；

按照光刻版图设计规则的要求，将所述参数整理成excl表格，生成所需的关键尺寸条状图形的单元库；

按照光刻结构设计规则的要求，整理式样的excl表格，生成最终所需要的关键尺寸条状图形。

可选的，所述第一EDA工具为smartcell工具。

可选的，所述参数包括层名称（layerid），掩模版（masknumber），版本号（typeversion）。

可选的，所述最终所需要的关键尺寸条状图形由第二EDA工具生成。

可选的，所述第二EDA工具为tcmagic工具。

与现有技术相比，本发明在画关键尺寸的过程中，采用单元库参数法，通过改变参数来确定关键尺寸条状图形的单个单元，并且将所述单元按所需要求进行分类，用可以清楚识别的参数描述，实现单元至参数的转化，在此之后就只需控制参数来生成关键尺寸条状图形；从而大大提高关键尺寸条状图形的生成效率。

附图说明

图1为本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法的流程图；

图2为本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法的步骤框图。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施例对本发明提出的关键尺寸条状图形的生成方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比率，仅用于方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本发明的核心思想在于，提供一种关键尺寸条状图形的生成方法，该方法在画关键尺寸的过程中，采用单元库参数法，通过改变参数来确定关键尺寸条状图形的单个单元，并且将所述单元按所需要求进行分类，用可以清楚识别的参数描述，实现单元至参数的转化，在此之后就只需控制参数来生成关键尺寸条状图形；从而大大提高关键尺寸条状图形的生成效率。

本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法，该方法在画关键尺寸的过程中，采用单元库参数法，通过改变参数来确定关键尺寸条状图形的单个单元，并且将所述单元按所需要求进行分类，用可以清楚识别的参数描述，实现单元至参数的转化，在此之后就只需控制参数来生成关键尺寸条状图形。因而能大大提高关键尺寸条状图形的生成效率。

关于本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法的具体流程请参考图1及图2，其中，图1为本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法的流程图，图2为本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法的步骤框图，结合图1及图2，本发明实施例提供的关键尺寸条状图形的生成方法具体包括如下步骤：

S1：根据光刻版图设计规则的要求，利用第一EDA工具生成关键尺寸条状图形基本图形；