[发明专利]感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法有效

专利信息
申请号: 201210384217.8 申请日: 2012-10-11
公开(公告)号: CN103076719B 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 村松有纪子;宫坂昌宏 申请(专利权)人: 日立化成株式会社
主分类号: G03F7/033 分类号: G03F7/033;G03F7/09;G03F7/00;H05K3/06
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 白丽;陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 感光性 树脂 组合 元件 图案 形成 方法 印刷 线板 制造
【说明书】:

本发明涉及一种感光性树脂组合物,其含有:分散度为1.6以下的粘合剂聚合物、光聚合性化合物以及含有具有1个或2个吖啶基的吖啶化合物的光聚合引发剂。

技术领域

本发明涉及感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法。

背景技术

在印刷配线板的制造领域中,作为刻蚀或镀覆中所使用的抗蚀材料,广泛使用感光性树脂组合物。感光性树脂组合物多以具备支撑膜和在该支撑膜上使用感光性树脂组合物形成的层(以下称作“感光性树脂组合物层”)的感光性元件(层叠体)的形式使用。

印刷配线板例如如下制造。首先,将感光性元件的感光性树脂组合物层层叠(层压)在电路形成用基板上(层叠工序)。接着,将支撑膜剥离除去后,对感光性树脂组合物层的规定部分照射活性光线而使曝光部固化(曝光工序)。之后,将未曝光部从基板上除去(显影),从而在基板上形成由感光性树脂组合物的固化物形成的抗蚀图案(显影工序)。对所得抗蚀图案实施刻蚀处理或镀覆处理而在基板上形成电路后(电路形成工序),最后将抗蚀剂剥离除去而制造印刷配线板(剥离工序)。

作为曝光的方法,以往使用以汞灯作为光源并介由光掩模进行曝光的方法。而且近年来,正在使用被称作DLP(数字光处理,Digital Light Processing)或LDI(激光直接成像,Laser Direct Imaging)的将图案的数字数据直接描绘在感光性树脂组合物层上的直接描绘曝光法。该直接描绘曝光法与介由光掩模的曝光法相比,位置对准精度更为良好,且可获得高精细的图案,因而被导入用于制作高密度封装基板。

在曝光工序中,为了提高生产效率,有必要缩短曝光时间。但是,在上述的直接描绘曝光法中,光源除了使用激光等单色光之外,由于要一边对基板进行扫描一边照射光线,因而具有与以往的介由光掩模的曝光方法相比需要更多的曝光时间的倾向。因此,为了缩短曝光时间以提高生产效率,有必要比以往进一步提高感光性树脂组合物的感度。

在剥离工序中,为了提高生产效率,有必要缩短抗蚀剂的剥离时间。另外,为了防止抗蚀剂的剥离片再次附着在电路基板上以提高生产成品率,有必要减小剥离片的尺寸。这样,要求固化后的剥离特性(剥离时间、剥离片尺寸等)优异的感光性树脂组合物。

另外,随着近年的印刷配线板的高密度化,对于析像度(分辨力)及密合性优异的感光性树脂组合物的要求有所提高。特别是在制作封装基板时,要求能够形成L/S(线宽/间距宽)为10/10(单位:μm)水平的抗蚀图案的感光性树脂组合物。

进而,对于高密度封装基板,由于电路间的宽度狭窄,因而抗蚀剂形状优异也变得很重要。当抗蚀剂的截面形状为梯形或倒梯形时、或者有抗蚀剂的卷边时,有可能在通过之后的刻蚀处理或镀覆处理形成的电路上产生短路或断线,是不优选的。因此,优选抗蚀剂形状为矩形且没有卷边。

针对这些要求,以往探讨了各种感光性树脂组合物。例如日本专利第4645776号公报中公开了通过并用2种具有吖啶基的化合物而提高了感度及析像度的感光性树脂组合物。

发明内容

但是,随着近年的印刷配线板的高密度化,对于感光性树脂组合物强烈地要求感度及析像度的进一步改善。

另外,当设于电路形成用基板上的通孔被抗蚀剂膜覆盖时,对所使用的感光性树脂组合物要求具有在显影液或水洗的喷雾压的作用下覆盖通孔的抗蚀剂膜不会被破坏的遮盖性、即要求具有遮盖可靠性。

因此,本发明的目的在于提供在充分地提高感度及析像度的同时遮盖可靠性也充分优异的感光性树脂组合物、以及使用了该感光性树脂组合物的感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立化成株式会社,未经日立化成株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210384217.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top