[发明专利]用于多重图案化集成电路的布局方法和系统

权利要求书

1.一种方法，包括：

(a)将代表位于集成电路(IC)层的至少一个区域的布局的任何奇数环中而不包括在所述布局的任何其他奇数环中的相应电路图案的任何节点识别为独立节点，其中，所述层将使用至少三个光掩模图案化多个电路图案；

(b)将离所述布局的另一个奇数环中的任何其他所述独立节点的距离不小于阈值距离的任何所述独立节点识别为安全独立节点；以及

(c)如果所述布局中的所述电路图案包括不具有任何安全独立节点的任何奇数环，则修改所述布局，使得修改之后，每个奇数环都具有至少一个安全独立节点。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：

(d)在用于设计验证或光掩模制造工艺的非瞬时性机器可读存储介质中分配和存储所述电路图案的光掩模分配，所述设计验证或光掩模制造工艺用于使用至少三个光掩模的多重图案化IC制造工艺。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，步骤(d)包括：

识别具有至少一个安全独立节点的IC层的布局的任何奇数环；

将由每个识别的奇数环中的所述至少一个安全独立节点中的单个节点代表的相应电路图案分配给所述至少三个光掩模中的第一个，使得分配给第一光掩模的每个电路图案都不违反设计规则。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，多重图案化工艺是三重图案化工艺，并且步骤(d)进一步包括：

使用双重图案化掩模分配技术将布局中的每个剩余电路图案分配给所述三个光掩模中的第二个和第三个。

5.一种用计算机程序指令编码的非瞬时性计算机可读存储介质，使得当所述计算机指令由计算机执行时，所述计算机执行以下方法：

(a)将代表位于集成电路(IC)层的布局的任何奇数环中而不包括在所述布局的任何其他奇数环中的相应电路图案的任何节点识别为独立节点，其中，所述层将使用至少三个光掩模图案化多个电路图案；

(b)将离IC层的布局的另一个奇数环中的任何其他所述独立节点的距离不小于阈值距离的任何所述独立节点识别为安全独立节点；以及

(c)如果布局中的电路图案包括不具有任何安全独立节点的任何奇数环，则修改IC层的布局，使得在修改之后，每个奇数环都具有至少一个安全独立节点。

6.根据权利要求5所述的非瞬时性计算机可读存储介质，进一步包括：

(d)在用于设计验证或光掩模制造工艺的非瞬时性机器可读存储介质中分配和存储电路图案的光掩模分配，所述设计验证或光掩模制造工艺用于使用至少三个光掩模的多重图案化IC制造工艺。

7.根据权利要求6所述的非瞬时性计算机可读存储介质，其中，步骤(d)包括：

识别具有至少一个安全独立节点的IC层的布局的任何奇数环；

将由每个识别的奇数环中的所述至少一个安全独立节点中的单独一个代表的相应电路图案分配给所述至少三个光掩模中的第一个，使得分配给第一光掩模的每个电路图案都不违反设计规则。

8.一种系统，包括：

专用计算机工具，被配置成将代表位于集成电路(IC)层的布局的任何奇数环中而不包括在所述布局的任何其他奇数环中的相应电路图案的任何节点识别为独立节点，其中，所述层将使用至少三个光掩模图案化的多个电路图案；

所述工具被配置成将离IC层的布局的另一个奇数环中的任何其他所述独立节点的距离不小于阈值距离的任何所述独立节点识别为安全独立节点；

所述工具被配置成识别布局中的电路图案是否包括不具有任何安全独立节点的任何奇数环，以及

所述工具包括用于修改IC层的布局的布局编辑器，使得在修改之后，每个奇数环都具有至少一个安全独立节点。

9.根据权利要求8所述的系统，其中，所述工具被配置成在用于设计验证或光掩模制造工艺的非瞬时性机器可读存储介质中分配和存储电路图案的光掩模分配，所述设计验证或光掩模制造工艺用于使用所述至少三个光掩模的多重图案化IC制造工艺。

10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述工具被配置用于：

识别具有两个或两个以上的安全独立节点的IC层的布局的任何奇数环；以及

将由每个识别的奇数环中的安全独立节点中的单个节点代表的相应电路图案分配给所述至少三个光掩模中的第一个，使得分配给第一光掩模的每个电路图案都不违反设计规则。