[发明专利]彩膜基板、液晶面板及彩膜基板的制备方法无效
申请号: | 201210364722.6 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN102879946A | 公开(公告)日: | 2013-01-16 |
发明(设计)人: | 谷新;柳在健 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1343;G02F1/153;G02F1/155 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 李娟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 彩膜基板 液晶面板 制备 方法 | ||
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括第一玻璃基板、第一透明电极层、彩色滤光层、黑色矩阵层、第二透明电极层、第二玻璃基板,所述彩色滤光层为由电致变色材料制成的彩色滤光层。
2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一透明电极层和所述第二透明电极层在通电情况下,所述由电致变色材料制成的彩色滤光层分别由透明态转为不同的颜色。
3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述不同的颜色依次为红色,绿色,蓝色。
4.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述不同的颜色依次为红色,绿色,蓝色,白色。
5.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述由电致变色材料制成的彩色滤光层,所述第一透明电极层和所述第二透明电极层未通电时,所述彩色滤光层的透过率为最大透过率,且所述第一透明电极层和所述第二透明电极层通电后,所述彩色透光层的透过率由所述最大透过率到最小透过率之间逐渐变小。
6.根据权利要求5所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色滤光层的透过率为80%~5%。
7.根据权利要求6所述的彩膜基板,其特征在于,所述电致变色材料为紫罗碱类材料,或聚噻吩类材料,或聚苯胺类材料。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一透明电极层和所述第二透明电极层厚度均为40~200nm。
9.根据权利要求8所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑色矩阵层厚度为5~15μm,所述黑色矩阵中每相邻两个开口区域之间的间隔为10~15μm,所述黑色矩阵中开口区域的宽度为50~100μm。
10.根据权利要求9所述的彩膜基板,其特征在于,所述彩色滤光层的厚度与所述黑色矩阵层的厚度相同。
11.一种液晶面板,包括对盒连接的阵列基板和彩膜基板、以及位于所述阵列基板和彩膜基板之间的液晶分子层,其特征在于,所述彩膜基板为权利要求1-10任一项所述的彩膜基板,所述彩膜基板的第二玻璃基板朝向所述液晶分子层。
12.一种彩膜基板的制备方法,其特征在于,包括:
在第一玻璃基板上溅射第一透明电极层,在第二玻璃基板上溅射第二透明电极层;
在第二透明电极层上沉积黑色矩阵层,并进行刻蚀,形成一定图形的黑色矩阵;
将电致变色材料沉积或涂覆于黑色矩阵中形成彩色滤光层;
将第一玻璃基板和第二玻璃基板对盒。
13.根据权利要求12所述的彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述步骤将所述电致变色材料沉积或涂覆于黑色矩阵中形成彩色滤光层:
所述电致变色材料是紫罗碱类小分子材料,采用真空蒸镀的方式形成彩色滤光层。
14.根据权利要求12所述的彩膜基板的制备方法,其特征在于,所述步骤将所述电致变色材料沉积或涂覆于黑色矩阵中形成彩色滤光层:
所述电致变色材料是聚噻吩类、或聚苯胺类高分子材料,采用刻蚀的方式形成彩色滤光层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210364722.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:镜头的可防尘快门装置
- 下一篇:一种液晶显示面板及其制造方法、显示装置