[发明专利]化学气相淀积设备以及化学气相淀积方法中清洗履带的方法无效
申请号: | 201210301805.0 | 申请日: | 2012-08-23 |
公开(公告)号: | CN103628038A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 王训辉;吴啸;过奇钧;范建超 | 申请(专利权)人: | 无锡华润华晶微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧霁晨;王忠忠 |
地址: | 214028 江苏省无锡市国*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 气相淀积 设备 以及 方法 清洗 履带 | ||
1.一种化学气相淀积设备,包括:腔体;将处理气体供给所述腔体的进气装置;将处理后的气体导出所述腔体的排气装置;移动载置被处理圆片的履带,其特征在于,还包括:
喷淋装置,对所述履带表面喷淋气化腐蚀液;
超声波清洗装置,利用超声波对所述履带表面进行清洗;以及
烘干装置,对所述履带表面进行烘干。
2.如权利要求1所述的化学气相淀积设备,其特征在于,
所述喷淋装置、所述超声波清洗装置、所述烘干装置按照履带的滚动方向依次设置。
3.如权利要求1所述的化学气相淀积设备,其特征在于,
所述喷淋装置设置在所述履带的上方,所述超声波清洗装置和所述烘干装置设置在所述履带的下方。
4.如权利要求3所述的化学气相淀积设备,其特征在于,
所述喷淋装置是喷淋气化HF的喷淋装置。
5.如权利要求4所述的化学气相淀积设备,其特征在于,
所述喷淋装置具备:一路引入HF酸的进气口和多个喷出汽化HF的出气口。
6.如权利要求5所述的化学气相淀积设备,其特征在于,
所述烘干装置利用灯丝对所述履带进行加热。
7.一种化学气相淀积法中清洗履带的方法,其特征在于,包括下述步骤:
对所述履带表面喷淋气化腐蚀液的喷淋步骤;
利用超声波对所述履带表面进行清洗的清洗步骤;以及
对所述履带表面进行烘干的烘干步骤。
8.如权利要求7所述的化学气相淀积法中清洗履带的方法,其特征在于,
在所述喷淋步骤中,喷淋气化HF。
9.如权利要求8所述的化学气相淀积法中清洗履带的方法,其特征在于,
在所述喷淋步骤中,通过多个出气口喷淋气化HF。
10.如权利要求9所述的化学气相淀积法中清洗履带的方法,其特征在于,
在所述烘干步骤中,利用灯丝对所述履带进行加热。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的