[发明专利]制程基板及其制造方法以及制造液晶显示装置的方法

权利要求书

1.一种制造液晶显示装置的方法，所述方法包括：

提供第一基板；

通过在真空状态下将第二基板附着到第二辅助基板来形成第二制程基板；

在所述第一基板上形成选通线、数据线、薄膜晶体管和像素电极；

在所述第二制程基板的所述第二基板上形成滤色层；

使所述第一基板和所述第二制程基板彼此附着，从而形成液晶面板；以及

从所述液晶面板分离所述第二辅助基板。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，形成第二制程基板的步骤包括：

在真空状态下使所述第二基板与所述第二辅助基板彼此接触；以及

在接触的所述第二基板和所述第二辅助基板的外区域处形成大气状态以利用大气压力对接触的所述第二基板和所述第二辅助基板施压以便于使所述第二基板和所述第二辅助基板附着在一起。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，形成第二制程基板的步骤包括：

将第三辅助基板附着到所述第二基板的第一表面；

在真空状态下使所述第二基板的第二表面与所述第二辅助基板的一个表面接触；

在与所述第二辅助基板和所述第三辅助基板接触的所述第二基板的外侧形成大气状态以利用大气压力对接触的所述第二基板、所述第二辅助基板、所述第三辅助基板施压，以便于将所述第二辅助基板和所述第三辅助基板附着到所述第二基板。

4.根据权利要求1所述的方法，所述方法进一步包括：通过将所述第一基板附着到第一辅助基板形成第一制程基板，

其中，在所述第一制程基板的所述第一基板上形成选通线、数据线、薄膜晶体管和像素电极。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，形成第一制程基板的步骤包括：

在真空状态下使所述第一基板和所述第一辅助基板彼此接触；以及

在接触的所述第一基板和所述第一辅助基板的外侧形成大气状态以利用大气压力对接触的所述第一基板和所述第一辅助基板施压以便于使所述第一基板和所述第一辅助基板附着在一起。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，形成第一制程基板的步骤包括：

将第四辅助基板附着到所述第一基板的第一表面；

在真空状态下使所述第一基板的第二表面与所述第一辅助基板的一个表面接触；

在与所述第一辅助基板和所述第四辅助基板接触的所述第一基板的外侧形成大气状态以利用大气压力对接触的所述第一基板、所述第一辅助基板和所述第四辅助基板施压以便于使所述第一辅助基板和所述第四辅助基板附着到所述第一基板；以及

从所述第一基板分离所述第四辅助基板。

7.根据权利要求1或4所述的方法，所述方法进一步包括：使所述第一基板和所述第一辅助基板彼此对齐，并且使所述第二基板和所述第二辅助基板彼此对齐。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，对齐的步骤包括：

使所述第一基板和所述第一辅助基板的角对齐；以及

使所述第二基板和所述第二辅助基板的角对齐。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，对齐的步骤包括：

使所述第一基板的四边与所述第一辅助基板的四边对齐；以及

使所述第二基板的四边与所述第二辅助基板的四边对齐。

10.一种制程基板，所述制程基板包括：

基板；

辅助基板，所述辅助基板与所述基板接触；以及

微空间，所述微空间形成在所述基板和所述辅助基板之间的整个界面表面上，

其中，所述微空间内的压力低于所述基板和所述辅助基板外侧的大气压力。

11.根据权利要求10所述的制程基板，其中，所述基板和所述辅助基板由相同材料形成。

12.根据权利要求11所述的制程基板，其中，所述基板和所述辅助基板由玻璃形成。

13.根据权利要求10所述的制程基板，其中，所述辅助基板具有0.3mm或更大的厚度。

14.根据权利要求13所述的制程基板，其中，所述辅助基板具有0.3mm~1.0mm的厚度。

15.根据权利要求14所述的制程基板，其中，所述基板具有0.1mm~0.4mm的厚度。