[发明专利]等离子体处理装置及其气体供给方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置的气体供给方法，所述等离子体处理装置通过向能够减压的处理室内供给规定的气体并生成等离子体，来对所述处理室内的基板实施规定的等离子体处理，该等离子体处理装置的气体供给方法的特征在于：

所述等离子体处理装置包括：

气体供给系统，在多个处理气体供给源分别连接气体供给路，经由这些气体供给路向所述处理室供给所希望的处理气体；

流量控制器，分别设置于各个所述气体供给路，根据所设定的流量来调整流量调整阀的开度，由此来控制流经所述气体供给路的气体的流量；和

分别设置于各个所述流量控制器的下游侧的开闭阀，

在所述基板的等离子体处理中交替切换至少两种以上的处理气体并供给至所述处理室内时，对于切换的所述处理气体的各个气体供给路，在开启所述流量控制器的下游侧的所述开闭阀的状态下，通过在所述流量控制器反复设定规定流量和零流量，来交替开闭各个所述处理气体的供给。

2.如权利要求1所述的等离子体处理装置的气体供给方法，其特征在于：

在各个所述流量控制器的上游侧也分别设置有开闭阀，

对于切换的所述处理气体的各个气体供给路，在不仅所述流量控制器的下游侧的所述开闭阀开启，而且上游侧的所述开闭阀也开启的状态下，通过对所述流量控制器反复进行规定流量和零流量的设定控制，来交替开闭各个所述处理气体的供给。

3.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置的气体供给方法，其特征在于：

将各个所述处理气体交替切换并供给至所述处理室内时，对各个所述处理气体的切换时间是否为阈值以下进行判断，

在判断所述切换时间为阈值以下的情况下，切换的所述处理气体的供给的开闭通过在所述开闭阀开启的状态下，对所述流量控制器设定规定流量或者零流量来进行，

在判断所述切换时间不为阈值以下的情况下，切换的所述处理气体的供给的开闭通过所述开闭阀的开闭来进行。

4.如权利要求3所述的等离子体处理装置的气体供给方法，其特征在于：

所述切换时间的阈值设定在1秒～15秒的范围。

5.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置的气体供给方法，其特征在于：

切换的所述处理气体至少是两种以上的蚀刻气体。

6.如权利要求1或2所述的等离子体处理装置的气体供给方法，其特征在于：

切换的所述处理气体至少包含蚀刻气体与清洁气体。

7.一种等离子体处理装置，其通过向能够减压的处理室内供给规定的气体并生成等离子体，来对所述处理室内的基板实施规定的等离子体处理，该等离子体处理装置的特征在于，

包括：

气体供给系统，在多个处理气体供给源分别连接气体供给路，经由这些气体供给路向所述处理室供给所希望的处理气体；

流量控制器，分别设置于各个所述气体供给路，根据所设定的流量来调整流量调整阀的开度，由此来控制流经所述气体供给路的气体的流量；

分别设置于各个所述流量控制器的下游侧的开闭阀；和

在各个所述流量控制器设定流量的控制部，

所述控制部，在所述基板的等离子体处理中交替切换至少两种以上的处理气体并供给至所述处理室内时，对于切换的所述处理气体的各个气体供给路，在开启所述流量控制器的下游侧的所述开闭阀的状态下，通过在所述流量控制器反复设定规定流量和零流量，来交替开闭各个所述处理气体的供给。