[发明专利]阵列基板和具有该阵列基板的显示面板有效
申请号: | 201210143943.0 | 申请日: | 2008-09-05 |
公开(公告)号: | CN102707516A | 公开(公告)日: | 2012-10-03 |
发明(设计)人: | 张钟雄 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343;G02F1/1362;H01L21/77 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星;薛义丹 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 具有 显示 面板 | ||
1.一种阵列基板,所述阵列基板包括:
基础基板;
栅极线,栅极线在基础基板上沿第一方向延伸;
数据线,数据线沿与第一方向交叉的第二方向延伸;
多个共电极,所述多个共电极形成在基础基板的多个像素区域中;
像素电极,像素电极具有形成在像素电极上的多个开口,
其中,共电极与像素电极的全部的所述多个开口叠置,且共电极与数据线的一部分叠置。
2.如权利要求1所述的阵列基板,其中,共电极与在与该像素电极相邻的另一像素区域中的像素电极叠置。
3.如权利要求1所述的阵列基板,所述阵列基板还包括:
屏蔽电极,屏蔽电极形成在数据线下方并在所述多个共电极中的形成在相邻的像素区域中的两个共电极之间,
其中,相同电平的电压施加到屏蔽电极和所述多个共电极。
4.如权利要求3所述的阵列基板,其中,屏蔽电极和共电极由相同的材料形成。
5.如权利要求3所述的阵列基板,其中,屏蔽电极由光学不透明且导电的材料形成。
6.如权利要求3所述的阵列基板,其中,屏蔽电极和栅极线由相同的材料形成。
7.如权利要求3所述的阵列基板,所述阵列基板还包括:
半导体层,半导体层形成在数据线和屏蔽电极之间。
8.如权利要求3所述的阵列基板,其中,所述多个共电极包括共同地形成在沿第一方向布置的多个像素区域中的共电极图案。
9.如权利要求8所述的阵列基板,其中,屏蔽电极与共电极图案叠置并且接触共电极图案。
10.如权利要求9所述的阵列基板,所述阵列基板还包括:
半导体层,半导体层形成在数据线和屏蔽电极之间。
11.如权利要求3所述的阵列基板,其中,共电极是彼此分开的。
12.如权利要求11所述的阵列基板,其中,屏蔽电极的宽度大于两个相邻的共电极之间的间隙。
13.如权利要求1所述的阵列基板,所述阵列基板还包括:
桥电极,桥电极沿第二方向电连接彼此相邻的共电极。
14.如权利要求1所述的阵列基板,所述阵列基板还包括桥电极,且彼此相邻的共电极一体地形成。
15.如权利要求13所述的阵列基板,其中,桥电极和像素电极由相同的材料形成。
16.如权利要求3所述的阵列基板,其中,屏蔽电极和共电极一体地形成。
17.如权利要求3所述的阵列基板,其中,屏蔽电极部分地与像素电极叠置。
18.一种显示面板,所述显示面板包括阵列基板和结合到阵列基板的相对基板,阵列基板包括:
基础基板;
栅极线,栅极线在基础基板上沿第一方向延伸;
数据线,数据线沿与第一方向交叉的第二方向延伸;
多个共电极,所述多个共电极形成在基础基板的多个像素区域中;
像素电极,像素电极具有形成在像素电极上的多个开口,
其中,共电极与像素电极的全部的所述多个开口叠置,且共电极与数据线的一部分叠置。
19.如权利要求18所述的显示面板,所述显示面板还包括:
屏蔽电极,屏蔽电极被形成为与数据线叠置并在所述多个共电极中的形成在相邻的像素区域中的两个共电极之间,
其中,相同电平的电压施加到屏蔽电极和所述多个共电极。
20.如权利要求18所述的显示面板,其中,相对基板包括与每个像素区域对应地形成的滤色器。
21.如权利要求18所述的显示面板,其中,相对基板包括形成在与栅极线和数据线对应的区域中的光阻挡图案。
22.如权利要求19所述的显示面板,其中,屏蔽电极和共电极由相同的材料形成。
23.如权利要求19所述的显示面板,其中,屏蔽电极由光学不透明且导电的材料形成。
24.如权利要求19所述的显示面板,其中,屏蔽电极和栅极线由相同的材料形成。
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