[发明专利]一种显示装置及其制作方法

权利要求书

1.一种显示装置，包括阵列基板、彩膜基板以及阵列基板和彩膜基板对盒形成的液晶盒，其特征在于，所述阵列基板上形成有墙形电极，所述墙形电极将所述彩膜基板上的一行或一列子像素隔开，同时所述墙形电极还将每行或每列子像素分隔为两行或两列亚子像素，所述两行或两列亚子像素所在的区域分别形成光线透射区和光线反射区，所述光线透射区和光线反射区内灌注的液晶使得透射区和反射区的光线具有相同的光程差。

2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述透射区和反射区的液晶层厚度相等。

3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述液晶盒内透射区和反射区间隔设置。

4.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述透射区内液晶的折射率差是反射区内液晶折射率差的两倍。

5.一种显示装置制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

在阵列基板上形成间隔设置的墙形电极，并将阵列基板与彩膜基板对盒形成液晶盒，所述墙形电极将所述彩膜基板上的一行或一列子像素隔开，同时所述墙形电极还将每行或每列子像素分隔为两行或两列亚子像素，所述两行或两列亚子像素所在的区域分别形成光线透射区和光线反射区；

向所述透射区和反射区内分别灌注液晶，使得透射区和反射区的光线具有相同的光程差；

对所述透射区和反射区封口，并电路组装形成显示装置。

6.如权利要求5所述的显示装置制作方法，其特征在于，相邻的所述墙形电极与所述阵列基板形成沟槽，所述透射区与反射区所对应的沟槽的长度不相等。

7.如权利要求6所述的显示装置制作方法，其特征在于，所述透射区液晶和反射区液晶的灌注步骤具体为：

真空环境下，将长度较长的沟槽浸入其要灌注的液晶中，通过毛细作用力将液晶吸入沟槽，然后用封口胶对所述长度较长的沟槽封口，并切割至与长度较短的沟槽长度相等；

再将所述长度较短的沟槽浸入其要灌注的液晶中，通过毛细作用力将液晶吸入沟槽，然后用封口胶对所述长度较短的沟槽封口，并切割掉部分封口胶。

8.如权利要求5所述的显示装置制作方法，其特征在于，所述透射区和反射区的液晶层厚度相等。

9.如权利要求5所述的显示装置制作方法，其特征在于，所述液晶盒内透射区和反射区间隔设置。

10.如权利要求5所述的显示装置制作方法，其特征在于，所述透射区内液晶的折射率差是反射区内液晶的折射率差的两倍。