[发明专利]石墨盘、具有上述石墨盘的反应腔室

权利要求书

1.一种化学气相沉积工艺的石墨盘，具有用于放置衬底的凹槽，其特征在于，包括：孔洞，位于与所述衬底的边缘对应的石墨盘中，所述孔洞用于减少对衬底的边缘的热辐射。

2.如权利要求1所述的石墨盘，其特征在于，所述孔洞与凹槽相连通。

3.如权利要求1所述的石墨盘，其特征在于，所述凹槽的侧壁和底部形成V型。

4.如权利要求1所述的石墨盘，其特征在于，还包括：与凹槽对应的支撑架，用于将衬底悬置，使得衬底与石墨盘不接触。

5.如权利要求4所述的石墨盘，其特征在于，所述支撑架的材质为石英、石墨、氮化硼、陶瓷或氧化锆中的一种或多种。

6.如权利要求4所述的石墨盘，其特征在于，所述支撑架的顶部固定于凹槽两侧的石墨盘上，所述支撑架的底部用于放置衬底。

7.如权利要求6所述的石墨盘，其特征在于，所述支撑架为Z型或阶梯型。

8.如权利要求6所述的石墨盘，其特征在于，所述衬底的正面、石墨盘的正面和支撑架的正面齐平。

9.一种化学气相沉积设备的反应腔室，其特征在于，包括如权利要求1所述的石墨盘。