[发明专利]在电子装置制造设施内传送基片载体的方法和装置

权利要求书

1.一种用于制造电子装置的系统，包括：

多个包含在电子装置制造设施中的基片加载站；

传送带系统，具有多个与所述传送带系统相连的载体支架，并适于在设施内运送载体；和

控制系统，连接到多个基片加载站和所述传送带系统，并适于：

接收从第一基片加载站传送载体到第二基片加载站的请求；

指定多个载体支架中的一个来从第一基片加载站传送载体到第二基片加载站，使得减少传送所需的时间；

从第一基片加载站运送载体；和

将载体运送到第二基片加载站。

2.根据权利要求1所述的系统，其中控制系统进一步适于：

选择所述多个载体支架中的一个；和

判断采用所选择的载体支架是否会与未决传送冲突。

3.根据权利要求2所述的系统，其中控制系统进一步适于：如果不存在与未决传送冲突，则指定所选择的载体支架用于从第一基片加载站传送载体到第二基片加载站。

4.根据权利要求2所述的系统，其中控制系统进一步适于：如果存在与未决传送冲突，则选择所述多个载体支架中的另一个。

5.根据权利要求4所述的系统，其中控制系统进一步适于：

判断采用所选择的另一个载体支架是否会与未决传送冲突；和

如果不存在与未决传送冲突，则指定所选择的另一个载体支架用于从第一基片加载站传送载体到第二基片加载站。

6.根据权利要求4所述的系统，其中控制系统进一步适于：判断采用所选择的载体支架是否会使传送带系统不平衡。

7.根据权利要求6所述的系统，其中控制系统进一步适于：如果不存在与未决传送冲突且所选择的载体支架不会使传送带系统不平衡，则指定所选择的载体支架用于从第一基片加载站传送载体到第二基片加载站。

8.根据权利要求7所述的系统，其中控制系统进一步适于：如果存在与未决传送冲突或所选择的载体支架会使传送带系统不平衡，则选择多个载体支架中的另一个。

9.根据权利要求8所述的系统，其中控制系统进一步适于：

判断采用所选择的另一个载体支架是否会与未决传送冲突；

判断采用所选择的另一个载体支架是否会使传送带系统不平衡；

如果不存在与未决传送冲突同时所选择的另一个载体支架不会使传送带系统不平衡，则指定所选择的另一个载体支架用于从第一基片加载站传送载体到第二基片加载站。

10.根据权利要求6所述的系统，其中未决传送包括在基片加载站之间的载体传送。

11.根据权利要求6所述的系统，其中控制系统进一步适于：基于以下至少其中之一来判断采用所选择的载体支架是否会与未决传送冲突：

第一组参数，包括：

用连接到传送带系统的相邻载体支架之间的间距所除的传送带系统的速度；

第一基片加载站准备好将载体放到传送带系统上所需的最大时间；以及

第一基片加载站将载体放到传送带系统上所需的最大时间和第一基片加载站从传送带系统移去载体所需的最大时间中的至少一个；和

第二组参数，包括：

用连接到传送带系统的相邻载体支架之间的间距所除的传送带系统的速度；

第二基片加载站准备好从传送带系统移去载体所需的最大时间；以及

第二基片加载站将载体放到传送带系统上所需的最大时间和第二基片加载站从传送带系统移去载体所需的最大时间中的至少一个。