[发明专利]激光雕刻用组合物、凸版印刷版原版、凸版印刷版的制版方法及凸版印刷版

说明书

技术领域

本发明涉及一种激光雕刻用组合物、激光雕刻用凸版印刷版原版及其制造方法以及凸版印刷版及其制版方法。

背景技术

目前，提出了许多利用激光对凸版形成层进行直接雕刻而制版的所谓的“直接雕刻CTP方式”。该方式中，对柔性原版直接照射激光，通过光热转换使其发生热分解及挥发，形成凹部。直接雕刻CTP方式与使用了原图膜的凸版形成不同，其可以自由地控制凸版形状。因此，在形成如镂空文字这样的图像的情况下，可以对该区域进行比其它区域更深的雕刻，或者，对于微细网点图像，考虑到对印刷压力的阻力，可以进行带有台阶的雕刻等。在该方式中所使用的激光通常可使用高输出的二氧化碳激光。在使用二氧化碳激光的情况下，所有的有机化合物吸收照射能量而可以转化为热。另一方面，正在开发廉价且小型的半导体激光，但由于这些激光是可见光及近红外光，因此，需要吸收该激光并转化为热。

另外，作为激光雕刻用凸版印刷版原版，已知有专利文献1～3中记载的印刷版原版。

专利文献1：日本特开2010-100048号公报

专利文献2：日本特开2009-262370号公报

专利文献3：国际公开第2005/070691号

发明内容

本发明的目的在于，提供一种能够得到制造时组合物的时效稳定性、进行激光雕刻而得到的凸版形状、由激光雕刻而产生的雕刻渣滓的冲洗性、得到的印刷版的耐印刷性及着墨性优异的凸版印刷版的激光雕刻用组合物，以及使用了上述激光雕刻用组合物的凸版印刷版原版、使用了其的凸版印刷版的制版方法及利用其得到的凸版印刷版。

本发明的上述课题是利用以下方案<1>、<17>、<20>及<23>而解决的。与作为优选的实施方式的<2>～<16>、<18>～<19>、<21>及<22>一同记载于以下。

<1>一种激光雕刻用组合物，其特征在于，含有：(成分A)含有两个以上被含有羧酸酯键及/或酰胺键的封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物、及(成分B)具有两个以上羟基的化合物，一个分子的成分A中的封端型异氰酸酯基数量A_I及一个分子的成分B中的羟基数量B_H满足式(1)的关系；

A_I+B_H＞4    (1)

<2>根据<1>所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用选自由脲系封端剂、活性亚甲基系封端剂、酰胺系封端剂及酰亚胺系封端剂构成的组中的封端剂保护；

<3>根据<1>或<2>所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用选自由活性亚甲基系封端剂及酰胺系封端剂构成的组中的封端剂保护；

<4>根据<1>～<3>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分A被用作为活性亚甲基系封端剂的封端剂保护；

<5>根据<1>～<4>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分B为(成分B1)分子量低于5,000的低分子化合物及/或(成分B2)分子量为5,000以上的高分子；

<6>根据<1>～<5>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分C)重均分子量为5,000以上且低于500,000的粘合剂聚合物；

<7>根据<1>～<6>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分C为选自由碳酸酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、酯树脂及乙烯基树脂构成的组中的至少一种树脂；

<8>根据<1>～<7>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其中，成分C为具有与异氰酸酯基反应能够形成交联结构的官能团的粘合剂聚合物；

<9>根据<1>～<8>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分D)二氧化硅粒子；

<10>根据<9>所述的激光雕刻用组合物，其中，成分D的数均粒径为0.01μm以上且10μm以下；

<11>根据<1>～<10>中任一项所述的激光雕刻用组合物，其还含有(成分E)促进保护异氰酸酯基的脱保护反应及/或其后的聚氨酯化反应的化合物；