[发明专利]激光雕刻用组合物、凸版印刷版原版、凸版印刷版的制版方法及凸版印刷版无效
申请号: | 201210033900.7 | 申请日: | 2012-02-15 |
公开(公告)号: | CN102645846A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 寒竹重史 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/075 | 分类号: | G03F7/075;B41N1/22;B41C1/05 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 激光雕刻 组合 凸版印刷 原版 制版 方法 | ||
1.一种激光雕刻用组合物,其特征在于,含有:(成分A)含有两个以上被含有羧酸酯键及/或酰胺键的封端剂保护的封端型异氰酸酯基的化合物、及(成分B)具有两个以上羟基的化合物,并且一个分子的成分A中的封端型异氰酸酯基数量AI及一个分子的成分B中的羟基数量BH满足式(1)的关系,
AI+BH>4 (1)
2.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其中,成分A被用选自由脲系封端剂、活性亚甲基系封端剂、酰胺系封端剂及酰亚胺系封端剂构成的组中的封端剂保护。
3.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其中,成分A被用选自由活性亚甲基系封端剂及酰胺系封端剂构成的组中的封端剂保护。
4.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其中,成分A被用作为活性亚甲基系封端剂的封端剂保护。
5.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其中,成分B为(成分B1)分子量低于5,000的低分子化合物及/或(成分B2)分子量为5,000以上的高分子化合物。
6.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其还含有(成分C)重均分子量为5,000以上且低于500,000的粘合剂聚合物。
7.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其中,成分C为选自由碳酸酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸树脂、酯树脂及乙烯基树脂构成的组中的至少一种树脂。
8.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其中,成分C为具有与异氰酸酯基反应能够形成交联结构的官能团的粘合剂聚合物。
9.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其还含有(成分D)二氧化硅粒子。
10.根据权利要求1所述的激光雕刻用组合物,其还含有(成分E)促进保护异氰酸酯基的脱保护反应及/或其后的尿烷化反应的化合物。
11.一种凸版印刷版原版,其支撑体上具备由权利要求1~10中的任一项所述的激光雕刻用组合物形成的凸版形成层。
12.根据权利要求11所述的凸版印刷版原版,其中,所述凸版形成层在光及/或热的作用下进行了交联。
13.一种凸版印刷版的制版方法,其包含对权利要求12所述的交联后的凸版形成层进行激光雕刻从而形成凸版层的工序。
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