[发明专利]抽气装置、低压化学气相沉积设备以及化学气相沉积方法有效
申请号: | 201210029680.0 | 申请日: | 2012-02-10 |
公开(公告)号: | CN103243308B | 公开(公告)日: | 2015-11-25 |
发明(设计)人: | 孙雷军 | 申请(专利权)人: | 无锡华润上华科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 臧霁晨;高为 |
地址: | 江苏省无锡市国家*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 低压 化学 沉积 设备 以及 方法 | ||
1.一种抽气装置,用于抽取低压化学气相沉积设备的炉管内的气体,其特征在于,所述抽 气装置包括:
并联的第一阀、第二阀和第三阀,其通过导管与炉管的排气口相连;
抽气泵,其通过导管与第一至第三阀相连,其中第一阀、第二阀和第三阀分别与抽气泵一起 工作用于降低炉管内气压且降低炉管内气压的速率依次递减;
其中,在晶圆装载、晶圆冷却和晶圆卸载期间,保持抽气。
2.如权利要求1所述的抽气装置,其特征在于,所述第一阀与所述抽气泵一起工作能够在1 分钟内将炉内气压降至5mtor以下,所述第二阀与所述抽气泵一起工作能够在6-8分钟内将 炉内气压从760tor降至3tor,所述第三阀与所述抽气泵一起工作能够在6-8分钟内将炉内气 压从760tor降至100tor。
3.一种低压化学气相沉积设备,其特征在于,所述设备包括:
具有一端开口、另一端封闭的炉管,所述炉管包括进气口、排气口;
炉管基座,用于与所述炉管开口端接触并与所述炉管构成密闭空间;
晶舟,装设于所述炉管基座并收容于所述炉管内部;以及
如权利要求1或2所述的抽气装置,与炉管的排气口相连。
4.如权利要求3所述的低压化学气相沉积设备,其特征在于,所述设备还包括:
关闭件,用于与所述炉管开口端接触并与所述炉管构成密闭空间。
5.一种利用权利要求3或4的低压化学气相沉积设备的化学气相沉积方法,其特征在于, 包括步骤:
A.将晶圆装载到晶舟上;
B.将晶舟送入炉管;
C.在晶舟完全进入炉管内时,开启抽气泵和第二阀,在压力为3tor时,开启第一阀直至炉 管内气压在5mtor以下;
D.停止抽气,通入反应气体;
E.待薄膜生长完成后,停止所述反应气体的通入;
F.将晶舟从炉管内移出;以及
G.从晶舟上卸载反应后的晶圆。
6.如权利要求5所述的化学气相沉积方法,其特征在于,步骤A还包括:
A1.闭合关闭件且开启抽气泵和第三泵。
7.如权利要求6所述的化学气相沉积方法,其特征在于,步骤A在步骤A1之后还包括:
A2.在炉管内的气压为100tor以下时,关闭抽气泵和第三阀;以及
A3.检验炉管的密封性;如果不密封则发送报警信号并停止后续步骤,否则向炉管内通入保 护气体至打开关闭件。
8.如权利要求5所述的化学气相沉积方法,其特征在于,步骤D还包括在停止抽气之后检 验炉管的密封性,如果不密封则发送报警信号并停止后续步骤,否则通入反应气体。
9.如权利要求5所述的化学气相沉积方法,其特征在于,步骤G还包括:在反应后的晶圆 冷却一定时间之后,从晶舟上卸载反应后的晶圆。
10.如权利要求9所述的化学气相沉积方法,其特征在于,在反应后的晶圆冷却期间,闭合 关闭件且开启第三阀和抽气泵。
11.如权利要求5所述的化学气相沉积方法,其特征在于,步骤G还包括:在从晶舟上卸载 反应后的晶圆期间,闭合关闭件且开启第三阀和抽气泵。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的