[发明专利]一种气体分配器及原子层沉积设备

权利要求书

1.一种气体分配器，包括进气管道、过渡管道和配气盘，所述配气盘固定设置在所述过渡管道的出气口，所述过渡管道的进气口与所述进气管道连接，所述配气盘上有出气孔，所述配气盘的外表面设有倾斜设置的气体导流板。

2.如权利要求1所述的气体分配器，其特征在于：所述过渡管道为锥筒形。

3.如权利要求1所述的气体分配器，其特征在于：所述配气盘上的出气孔包括一个中央出气孔和若干个外圈出气孔，所述中央出气孔位于所述配气盘中央，所述外圈出气孔均匀分布的在所述配气盘的外圈。

4.如权利要求3所述的气体分配器，其特征在于：所述外圈出气孔的个数为8个。

5.如权利要求1所述的气体分配器，其特征在于：所述出气孔的孔径为1.5mm。

6.如权利要求1所述的气体分配器，其特征在于：所述出气孔的面积总和小于所述过渡管道的进气口面积。

7.如权利要求1所述的气体分配器，其特征在于：所述气体导流板倾斜设置的角度为30度-60度。

8.如权利要求7所述的气体分配器，其特征在于：所述气体导流板倾斜设置的角度为45度。

9.如权利要求1所述的气体分配器，其特征在于：所述气体导流板为厚度为1mm的不锈钢板。

10.一种原子层沉积设备，包括上述任一一权利要求所述的气体分配器，所述气体分配器设置在所述原子层沉积设备的沉积腔室内，所述沉积腔室的腔室壁上设有进气口和出气口，所述沉积腔室的内部设有样品台，所述气体分配器位于所述样品台的正上方。