[发明专利]成膜用组合物

权利要求书

1.成膜用组合物，其包含含三嗪环的超支化聚合物和至少一种破坏氢键的溶解促进剂，所述超支化聚合物包括下式（1）的重复单元结构,

[化1]

其中R和R'各自独立地是氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，前提条件是，R和R'的至少一方是氢原子；且Ar是包含芳环和杂环的一者或两者的二价有机基团，

所述氢键形成在所述超支化聚合物的分子内部和/或分子之间、在三嗪环上的氮原子与来自二芳基胺的NH基团之间。

2.权利要求1所述的成膜用组合物，其中，Ar是选自下式（2）～（18）的至少1种，

[化2]

式中，R¹至R¹²⁸各自独立地是氢原子、卤原子、羧基、磺酰基、碳数1-10的可具有支链结构的烷基、或碳数1-10的可具有支链结构的烷氧基；W¹和W²各自独立地是单键、CR¹²⁹R¹³⁰（R¹²⁹和R¹³⁰各自独立地是氢原子、或碳数1-10的可具有支链结构的烷基，前提条件是，R¹²⁹和R¹³⁰可以一起形成环）、C=O、O、S、SO、SO₂或NR¹³¹（R¹³¹是氢原子、或碳数1-10的可具有支链结构的烷基）；且X¹和X²各自独立地是单键、碳数1-10的可具有支链结构的亚烷基、或下式（19）的基团，

[化3]

式中，R¹³²至R¹³⁵各自独立地是氢原子、卤原子、羧基、磺酰基、碳数1-10的可具有支链结构的烷基、或碳数1-10的可具有支链结构的烷氧基；且Y¹和Y²各自独立地是单键、或碳数1-10的可具有支链结构的亚烷基。

3.权利要求2所述的成膜用组合物，其中，Ar是选自式（5）～（12）和式（14）～（18）的至少1种。

4.权利要求2所述的成膜用组合物，其中，Ar是选自下式（20）～（22）的至少1种，

[化4]

式中，R³²至R³⁷、R⁶⁹至R⁸⁰、R¹²⁹、R¹³⁰和R¹³²至R¹³⁵与上述定义相同。

5.权利要求1所述的成膜用组合物，其中，所述重复单元结构具有下式（23），

[化5]

6.权利要求1所述的成膜用组合物，其中，所述重复单元结构具有下式（24），

[化6]

R和R'与上述定义相同。

7.权利要求6所述的成膜用组合物，其中，所述重复单元结构具有下式（25），

[化7]

8.权利要求1-7任一项所述的成膜用组合物，其中，所述含三嗪环的超支化聚合物在至少一个末端被下述基团封端：烷基、芳烷基、芳基、烷基氨基、含烷氧基甲硅烷基的烷基氨基、芳烷基氨基、芳基氨基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基或酯基。

9.权利要求8所述的成膜用组合物，其中，所述含三嗪环的超支化聚合物具有至少一个末端三嗪环，所述末端三嗪环被下述基团封端：烷基、芳烷基、芳基、烷基氨基、含烷氧基甲硅烷基的烷基氨基、芳烷基氨基、芳基氨基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基或酯基。

10.权利要求1-9任一项所述的成膜用组合物，其中，所述溶解促进剂是包括选自下述的一种或多种基团的化合物：羟基、羰基、羧基、氨基和酰胺基、以及尿烷键和脲键。

11.权利要求1-9任一项所述的成膜用组合物，其中，所述溶解促进剂是水。

12.权利要求1-9任一项所述的成膜用组合物，其中，所述溶解促进剂是酸。