[实用新型]一种示教清洗一体盘有效
| 申请号： | 201120417197.0 | 申请日： | 2011-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN202259217U | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 张怀东 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/68;B08B13/00 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 白振宇 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 一体 | ||
1.一种示教清洗一体盘，其特征在于：该示教清洗一体盘的底部开有与带动其旋转的吸盘相对应的凹槽(2)，在所述示教清洗一体盘的侧壁上开有喷射清洗液的喷射孔(3)。
2.按权利要求1所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述示教清洗一体盘的盘体(1)包括底部(4)、弯折部(5)及遮挡部(6)，其中底部(4)下表面的中间开设有所述凹槽(2)，所述喷射孔(3)开设在弯折部(5)上。
3.按权利要求2所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述底部(4)的边缘向上弯曲、形成弯折部(5)，该弯折部(5)上边缘沿径向向内延伸、形成防止清洗液外溅的遮挡部(6)，该遮挡部(6)边缘之间为倒入清洗液的圆孔。
4.按权利要求2或3所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述弯折部(5)的轴向截面由两条斜边及一条竖直边组成，其中竖直边垂直于所述底部(4)，一条斜边连接于底部(4)及所述竖直边的下端，另一条斜边连接于遮挡部(6)及所述竖直边的上端，在两条斜边及一条竖直边上均开设有喷射孔(3)。
5.按权利要求4所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述竖直边与被清洗的废液收集杯(7)的内壁平行。
6.按权利要求2或3所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述遮挡部(6)与底部(4)相平行。
7.按权利要求1所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述示教清洗一体盘为圆盘形，其外径与示教晶片的外径相同。
8.按权利要求1所述的示教清洗一体盘，其特征在于：所述凹槽(2)为与吸盘(9)的形状相对应的圆槽，凹槽(2)的中心轴线与示教清洗一体盘的中心轴线共线。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
