[发明专利]含碳薄膜的宽度减小方法及氧化装置

权利要求书

1.一种含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

该含碳薄膜的宽度减小方法包括以下工序：

输入工序，其用于将形成有被图案化了的含碳薄膜的被处理体向氧化装置的处理容器内输入；

宽度减小工序，其用于一边向上述处理容器内供给水分一边利用氧化气体对上述含碳薄膜的表面进行氧化处理而除去该含碳薄膜的表面，由此，使上述图案的凸部的宽度减小。

2.一种含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

该含碳薄膜的宽度减小方法包括以下工序：

输入工序，其用于将形成有被图案化了的含碳薄膜的被处理体向氧化装置的处理容器内输入；

水分供给工序，其用于向上述处理容器内供给水分；

宽度减小工序，其用于利用氧化气体对上述含碳薄膜的表面进行氧化处理而除去该含碳薄膜的表面，由此，使上述图案的凸部的宽度减小。

3.一种含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

该含碳薄膜的宽度减小方法包括以下工序：

输入工序，其用于将形成有被图案化了的含碳薄膜的被处理体向氧化装置的处理容器内输入；

水分供给工序，其用于向上述处理容器内供给水分；

宽度减小工序，其用于一边向上述处理容器内供给水分一边利用氧化气体对上述含碳薄膜的表面进行氧化处理而除去该含碳薄膜的表面，由此使上述图案的凸部的宽度减小。

4.根据权利要求1所述的含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

上述含碳薄膜由从组中选择的1种膜构成，该组包括抗蚀剂膜、碳膜及反射防止膜。

5.根据权利要求1所述的含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

上述氧化气体由含氧气体构成。

6.根据权利要求5所述的含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

上述氧化处理是氧气氛中的等离子体氧化。

7.根据权利要求5所述的含碳薄膜的宽度减小方法，其特征在于，

上述氧化处理是氧气氛中的热氧化处理或者臭氧气氛中的热氧化处理。

8.一种氧化装置，其特征在于，

该氧化装置包括：

处理容器，其能够被抽真空；

保持部件，其用于在处理容器内对形成有被图案化了的含碳薄膜的多张被处理体进行保持；

氧化气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给氧化气体；

水分供给部件，其用于向上述处理容器内供给水分；

活性化部件，其用于使上述氧化气体活性化；

装置控制部，其用于控制装置整体，使得权利要求1所述的含碳薄膜的宽度减小方法被执行。

9.一种氧化装置，其特征在于，

该氧化装置包括：

处理容器，其能够被抽真空；

保持部件，其用于在处理容器内对形成有被图案化了的含碳薄膜的多张被处理体进行保持；

氧化气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给氧化气体；

水分供给部件，其用于向上述处理容器内供给水分；

加热部件，其用于加热上述被处理体；

装置控制部，其用于控制装置整体，使得权利要求1所述的含碳薄膜的宽度减小方法被执行。