[发明专利]正型感光性树脂组合物及永久抗蚀剂

说明书

技术领域

本发明涉及含有特定的环氧硅氧烷化合物的正型感光性树脂组合物、以及使用了该正型感光性树脂组合物的永久抗蚀剂。

背景技术

在薄膜晶体管(以下，记为“TFT”)型液晶显示元件、磁头元件、集成电路元件、固体摄像元件等电子部件中，通常为了使层状地配置的布线之间绝缘而设有层间绝缘膜。作为形成层间绝缘膜的材料，用于获得所需图案形状的工序数少而且具有充分的平坦性的材料是优选的，因此广泛使用感放射线性树脂组合物(参照专利文献1)。上述电子部件中的例如TFT型液晶显示元件经由在上述的层间绝缘膜上形成透明电极膜并进一步在其上形成液晶取向膜的工序来制造，因此层间绝缘膜会暴露在透明电极膜的形成工序中的高温条件下、或者会暴露在电极的图案形成所使用的抗蚀剂的剥離液中，因此需要对这些有充分的耐性。另外通过制造工序形成的层间绝缘膜有时还会暴露于干式蚀刻，需要有对干式蚀刻的充分的耐性(参照专利文献2)。

另外近年，在TFT型液晶显示元件中，在大画面化、高亮度化、高精细化、高速应答化、薄型化等动向中，作为在其中使用的层间绝缘膜形成用组合物，在高感度、形成的层间绝缘膜为低介电常数、高透射率等方面，需要比以往更高的性能。作为绝缘性、耐热性、耐溶剂性、干式蚀刻耐性等优异、可形成微细的图案的层间绝缘膜材料，开发了含有具有羧基的聚硅氧烷化合物和感光性重氮醌(diazoquinone)化合物的正型感光性组合物(参照专利文献3)，还已知含有含环氧基的环状硅氧烷化合物的组合物，但由于显影工序中的显影容限(margin)(显影时间为最适合的时间的宽度)小，因此就算显影时间仅轻微过量，也易于在所形成的图案与基板之间浸透显影液而产生剥离，因此需要严格控制显影时间，在产品的成品率方面存在问题。

另一方面，已知连结了具有环氧基的环状硅氧烷化合物的化合物(参照专利文献4)，但未知含有这样的化合物的正型感光性树脂组合物。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-354822号公报

专利文献2：日本特开2005-345757号公报

专利文献3：日本特开2010-101957号公报

专利文献4：日本特表2001-513117号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明的目的在于提供正型感光性树脂组合物，其在高耐热性、高耐溶剂性、高透射率和低介电常数的层间绝缘膜的形成中是适宜的，且在显影工序中具有即使超过了最适显影时间也依然能够形成良好的图案形状这样的大显影容限。

用于解决问题的方法

本发明人鉴于上述情况而深入研究，结果达成了本发明。

即，本发明提供正型感光性树脂组合物，其含有作为基础树脂的具有羧基和/或酚性羟基的聚硅氧烷化合物、作为感光性成分的感光性重氮醌化合物、和有机溶剂，其特征在于，含有环氧硅氧烷化合物，所述环氧硅氧烷化合物为将下述通式(1)所示的基团彼此、或者下述通式(1)所示的基团与下述通式(2)所示的基团用从在1分子中具有2～4个乙烯基的化合物中去除了乙烯基而成的残基进行连结而得到的环氧硅氧烷化合物。

(式中，R¹表示可以相同也可以不同的碳原子数为1～4的烷基或碳原子数为6～10的芳基，E表示具有环氧基的基团，a表示2～5的数。)

(式中，b表示使a-b+1为0～4的数的2～6的数，R¹、E和a与上述通式(1)意义相同。)

发明的效果

本发明的效果在于提供正型感光性树脂组合物，其在高耐热性、高耐溶剂性、高透射率和低介电常数的层间绝缘膜的形成中是适宜的，且在显影工序中具有即使超过了最适显影时间也依然能够形成良好的图案形状这样的大显影容限。

具体实施方式

以下，对于本发明的正型感光性树脂组合物及永久抗蚀剂，基于优选的实施方式进行详细说明。